对石墨烯氧化物化学还原条件的探索
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·石墨烯材料 | 第10-18页 |
| ·石墨烯概述 | 第10-12页 |
| ·石墨烯结构性能 | 第12-13页 |
| ·石墨烯的制备方法及表征 | 第13-18页 |
| ·石墨烯的应用与发展前景 | 第18页 |
| ·离子液体、助溶剂在石墨烯中的研究进展 | 第18-20页 |
| ·离子液体概述 | 第18-19页 |
| ·离子液体的作用和应用 | 第19-20页 |
| ·离子液体与石墨烯 | 第20页 |
| ·酰胺类溶剂在石墨烯研究中的应用 | 第20页 |
| ·本论文选题的意义、创新点及主要内容 | 第20-21页 |
| ·论文所用原料、仪器与表征手段 | 第21-24页 |
| 第二章 石墨氧化物的制备与表征 | 第24-33页 |
| ·石墨氧化物概述 | 第24-25页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第25-26页 |
| ·石墨氧化物的表征 | 第26-32页 |
| ·SEM 表征 | 第26-27页 |
| ·FT-IR 表征 | 第27-28页 |
| ·Raman 表征 | 第28-29页 |
| ·TG 表征 | 第29-30页 |
| ·XRD 表征 | 第30-31页 |
| ·氧化石墨烯分散稳定性表征 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 离子液体还原修饰氧化石墨烯 | 第33-44页 |
| ·研究背景 | 第33-34页 |
| ·石墨烯的制备过程 | 第34页 |
| ·石墨烯（RGO）的表征 | 第34-43页 |
| ·TEM 表征 | 第34-35页 |
| ·Uv-vis 表征 | 第35-36页 |
| ·XPS 表征 | 第36-39页 |
| ·Raman 表征 | 第39-40页 |
| ·TG 表征 | 第40-41页 |
| ·XRD 表征 | 第41-42页 |
| ·rGO 的分散性表征 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 探索不同还原剂制备石墨烯 | 第44-59页 |
| ·研究背景 | 第44-45页 |
| ·实验部分 | 第45-48页 |
| ·实验表征 | 第48-58页 |
| ·XRD 表征 | 第48-50页 |
| ·Raman 表征 | 第50-53页 |
| ·CHN 表征 | 第53页 |
| ·XPS 表征 | 第53-55页 |
| ·TG 表征 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-73页 |
| 作者简历 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
