| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-21页 |
| ·SiCN 薄膜的研究背景和现状 | 第9页 |
| ·SiCN 薄膜的结构 | 第9-10页 |
| ·SiCN 薄膜的特性 | 第10-17页 |
| ·机械性质 | 第10-11页 |
| ·场发射性质 | 第11-13页 |
| ·发光性质 | 第13-14页 |
| ·扩散阻挡层性质 | 第14-17页 |
| ·本文的工作 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第二章 SiCN 薄膜的制备和表征 | 第21-30页 |
| ·薄膜制备 | 第21-22页 |
| ·基片清洗 | 第22-24页 |
| ·样品制备参数 | 第24页 |
| ·样品退火处理 | 第24页 |
| ·薄膜结构表征 | 第24-27页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第24-25页 |
| ·傅里叶变换红外光谱分析（FTIR） | 第25页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第25页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第26-27页 |
| ·薄膜性质表征 | 第27-29页 |
| ·纳米压痕 | 第27-28页 |
| ·紫外—可见光透射 | 第28页 |
| ·光致发光（PL） | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 辅源N_2比例对SiCN 薄膜结构、硬度和透光性质的影响 | 第30-45页 |
| ·SiCN 薄膜的结构 | 第30-37页 |
| ·SiCN 薄膜XRD 分析 | 第30-31页 |
| ·SiCN 薄膜的FTIR 光谱分析 | 第31-32页 |
| ·SiCN 薄膜的Raman 光谱分析 | 第32-34页 |
| ·SiCN 薄膜的XPS 分析 | 第34-36页 |
| ·SiCN 薄膜的AFM 分析 | 第36-37页 |
| ·SiCN 薄膜的硬度和弹性模量 | 第37-39页 |
| ·SiCN 薄膜的透光性质 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第四章 辅源离子能量对SiCN 薄膜结构、硬度和发光性质的影响 | 第45-57页 |
| ·SiCN 薄膜的结构 | 第45-49页 |
| ·SiCN 薄膜的 XRD 分析 | 第45页 |
| ·SiCN 薄膜的FTIR 光谱分析 | 第45-46页 |
| ·SiCN 薄膜的Raman 光谱分析 | 第46-48页 |
| ·SiCN 薄膜的SEM 分析 | 第48-49页 |
| ·SiCN 薄膜的硬度和弹性模量 | 第49-51页 |
| ·退火后SiCN 薄膜的结构 | 第51-54页 |
| ·退火后SiCN 薄膜的FTIR 光谱分析 | 第51-52页 |
| ·退火后SiCN 薄膜的Raman 光谱分析 | 第52-53页 |
| ·退火后SiCN 薄膜的光致发光性质 | 第53-54页 |
| ·本章小节 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |