| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 前言 | 第9-25页 |
| 1.1 综述 | 第9-10页 |
| 1.2 氧化锌基薄膜简介 | 第10-21页 |
| 1.2.1 氧化锌基薄膜结构与性质 | 第10-13页 |
| 1.2.2 氧化锌基薄膜的制备方法 | 第13-18页 |
| 1.2.3 氧化锌基薄膜的应用进展 | 第18-21页 |
| 1.3 柔性A1掺杂ZnO(AZO)薄膜研究进展 | 第21-23页 |
| 1.3.1 柔性衬底材料的选择与处理 | 第21页 |
| 1.3.2 缓冲层对薄膜性能的影响 | 第21-22页 |
| 1.3.3 柔性AZO薄膜的研究进展与应用前景 | 第22-23页 |
| 1.4 本课题研究目标、内容与意义 | 第23-25页 |
| 第二章 无机缓冲层柔性AZO薄膜的制备与表征 | 第25-42页 |
| 2.1 磁控溅射基本原理 | 第25-28页 |
| 2.1.1 直流磁控溅射 | 第26-27页 |
| 2.1.2 射频(RF)磁控溅射 | 第27页 |
| 2.1.3 中频交流磁控溅射 | 第27-28页 |
| 2.2 薄膜生长过程 | 第28-29页 |
| 2.3 中频反应磁控溅射法制备无机缓冲层柔性AZO薄膜 | 第29-31页 |
| 2.4 柔性AZO薄膜结构表征 | 第31-40页 |
| 2.4.1 不同缓冲层AZO薄膜表面形貌SEM分析 | 第31-32页 |
| 2.4.2 不同缓冲层AZO薄膜的晶体结构XRD分析 | 第32-35页 |
| 2.4.3 不同缓冲层AZO薄膜的表面组分分析 | 第35-38页 |
| 2.4.4 不同缓冲层AZO薄膜的表面元素分析 | 第38-40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 缓冲层对柔性AZO薄膜光电性质的影响 | 第42-53页 |
| 3.1 缓冲层对AZO薄膜电学性质的影响 | 第42-48页 |
| 3.1.1 霍尔性质测试仪工作原理 | 第42-43页 |
| 3.1.2 不同缓冲层AZO薄膜电学性质随氩氧比的变化 | 第43-44页 |
| 3.1.3 不同缓冲层AZO薄膜电学性质随膜厚度的变化 | 第44-46页 |
| 3.1.4 缓冲层对AZO薄膜的电学性质的影响 | 第46-48页 |
| 3.2 缓冲层对AZO薄膜光学性质的影响 | 第48-51页 |
| 3.2.1 透射—吸收光谱原理 | 第48-49页 |
| 3.2.2 不同缓冲层AZO薄膜的透射—吸收光谱分析 | 第49-51页 |
| 3.3 不同缓冲层AZO薄膜的品质因子 | 第51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 缓冲层对柔性AZO薄膜的弯曲性能的影响 | 第53-63页 |
| 4.1 薄膜弯曲性能测试 | 第53页 |
| 4.2 缓冲层对AZO薄膜电学抗弯曲性能的影响 | 第53-59页 |
| 4.2.1 不同弯曲半径下柔性AZO薄膜的电学性能 | 第54-57页 |
| 4.2.2 不同弯曲次数下柔性AZO薄膜的电学性能 | 第57-59页 |
| 4.3 缓冲层对AZO薄膜光学抗弯曲性能的影响 | 第59-61页 |
| 4.4 缓冲层对AZO薄膜表面形貌的影响 | 第61-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 总结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 硕士期间发表论文 | 第72页 |
