摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第10-14页 |
1.1 催化概念 | 第10页 |
1.2 模型催化研究 | 第10-12页 |
参考文献 | 第12-14页 |
第二章 实验部分 | 第14-31页 |
2.1 实验装置 | 第14页 |
2.2 X射线光电子能谱 | 第14-19页 |
2.2.1 X射线源 | 第15-18页 |
2.2.2 能量分析器 | 第18-19页 |
2.2.3 真空系统 | 第19页 |
2.3 低能离子散射谱Low Energy Ion Scattering | 第19-24页 |
2.3.1 散射原理 | 第19-21页 |
2.3.2 LEIS工作原理 | 第21-22页 |
2.3.3 仪器组成 | 第22-24页 |
2.4 制备方法 | 第24-28页 |
2.4.1 表面清洁 | 第24-25页 |
2.4.2 模型催化剂制备 | 第25-28页 |
参考文献 | 第28-31页 |
第三章 FeO_x薄膜的制备与表征 | 第31-55页 |
3.1 文献调研 | 第31-38页 |
3.1.1 铁氧化物晶体结构与稳定范围 | 第31-33页 |
3.1.2 铁氧化物膜的研究进展 | 第33-38页 |
3.2 样品制备 | 第38页 |
3.3 结果与讨论 | 第38-49页 |
3.3.1 制备条件探索 | 第38-43页 |
3.3.2 不同厚度氧化物薄膜的稳定性考察 | 第43-49页 |
3.4 小结 | 第49页 |
参考文献 | 第49-55页 |
第四章 CoO_x薄膜的制备与表征 | 第55-65页 |
4.1 钴氧化物模型催化剂的研究进展 | 第55-57页 |
4.1.1 CoO | 第56页 |
4.1.2 Co_3O_4 | 第56-57页 |
4.2 实验部分 | 第57页 |
4.2.1 样品制备 | 第57页 |
4.3 结果讨论 | 第57-61页 |
4.3.1 钴氧化物膜的制备 | 第57-59页 |
4.3.2 钴氧化物膜稳定性考察 | 第59-61页 |
4.4 小结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
第五章 总结 | 第65-66页 |
5.1 FeO_x | 第65页 |
5.2 CoO_x | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |