钨青铜材料中的W空位有序
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 引言 | 第8-10页 |
| 第二章 纳米科学 | 第10-18页 |
| 2.1 纳米科学的发展 | 第10-11页 |
| 2.2 纳米材料 | 第11-14页 |
| 2.2.1 零维纳米材料 | 第12页 |
| 2.2.2 一维纳米材料 | 第12-13页 |
| 2.2.3 二维纳米材料 | 第13-14页 |
| 2.3 纳米材料的物理效应 | 第14-18页 |
| 2.3.1 量子尺寸效应 | 第15页 |
| 2.3.2 表面效应和小尺寸效应 | 第15-16页 |
| 2.3.3 库伦堵塞效应 | 第16页 |
| 2.3.4 量子隧穿效应 | 第16-18页 |
| 第三章 钨青铜材料 | 第18-31页 |
| 3.1 钨青铜材料的简介 | 第18-19页 |
| 3.2 钨青铜材料的结构 | 第19-27页 |
| 3.2.1 钨青铜的基本结构 | 第20-21页 |
| 3.2.2 伪四方钨青铜 | 第21-22页 |
| 3.2.3 钨青铜中的有序结构 | 第22-24页 |
| 3.2.4 钨青铜中的共生结构 | 第24-26页 |
| 3.2.5 共掺杂钨青铜 | 第26页 |
| 3.2.6 钨青铜材料的应用 | 第26-27页 |
| 3.3 钨青铜材料的制备方法 | 第27-31页 |
| 3.3.1 热还原方法 | 第27-28页 |
| 3.3.2 湿化学方法 | 第28-29页 |
| 3.3.3 电化学方法 | 第29-31页 |
| 第四章 透射电子显微学 | 第31-45页 |
| 4.1 透射电子显微镜的发展简介 | 第31-34页 |
| 4.2 透射电子显微镜的构造与基本原理 | 第34-39页 |
| 4.2.1 透射电子显微镜的照明系统 | 第35-36页 |
| 4.2.2 透射电子显微镜的成像系统 | 第36页 |
| 4.2.3 透射电子显微镜的观察和记录系统 | 第36-39页 |
| 4.3 透射电子显微技术简介 | 第39-45页 |
| 第五章 实验仪器简介 | 第45-49页 |
| 5.1 加热炉 | 第45页 |
| 5.2 SEM-扫描电子显微镜 | 第45-46页 |
| 5.3 XRD-X射线衍射仪 | 第46-47页 |
| 5.4 TEM-透射电子显微镜 | 第47-49页 |
| 第六章 样品制备及结果分析 | 第49-62页 |
| 6.1 简单加热法制备钾钨青铜材料 | 第49-50页 |
| 6.2 实验结果与讨论 | 第50-62页 |
| 6.2.1 产物的SEM分析 | 第50页 |
| 6.2.2 产物的XRD表征 | 第50-51页 |
| 6.2.3 产物的TEM表征 | 第51-52页 |
| 6.2.4 截面样品的微结构分析 | 第52-55页 |
| 6.2.5 电子束辐照下空位消失 | 第55-56页 |
| 6.2.6 结论 | 第56页 |
| 6.2.7 电子束辐照下钠钨青铜的相变 | 第56-62页 |
| 第七章 总结与展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
