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基于Zn2GeO4纳米线网制备的高性能日盲DUV光电探测器的特性研究

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第1章 绪论第10-18页
    1.1 研究的背景和意义第10页
    1.2 Zn_2GeO_4纳米材料的基本性质和研究进展第10-12页
    1.3 紫外探测技术的发展过程第12页
    1.4 紫外光电探测器的发展过程第12-14页
        1.4.1 光电子发射探测器第13页
        1.4.2 光电导探测器第13页
        1.4.3 光伏探测器第13-14页
    1.5 紫外光电探测器的特性参数第14-16页
        1.5.1 探测波长第15页
        1.5.2 量子效率第15页
        1.5.3 光谱响应度第15页
        1.5.4 噪声等效功率第15-16页
        1.5.5 探测率第16页
    1.6 本文的主要研究内容第16-18页
第2章 Zn_2GeO_4纳米线的制备与表征第18-30页
    2.1 纳米结构材料的制备方法第18-21页
        2.1.1 气相沉积法第18-20页
        2.1.2 液相法第20页
        2.1.3 磁控溅射法第20-21页
    2.2 一维Zn_2GeO_4纳米材料的制备第21-25页
        2.2.1 实验材料第21页
        2.2.2 实验设备第21-22页
        2.2.3 实验过程第22-25页
    2.3 Zn_2GeO_4纳米结构的主要表征方法第25-29页
        2.3.1 X射线衍射(XRD)第25-26页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)与能谱分析仪(EDS)第26-27页
        2.3.3 原子力显微镜(AFM)第27-28页
        2.3.4 透射电子显微镜(TEM)第28-29页
    2.4 本章小结第29-30页
第3章 不同生长压强下制备Zn_2GeO_4纳米线网的研究第30-37页
    3.1 实验步骤第30-31页
    3.2 不同生长压强下制备的Zn_2GeO_4纳米线网的表征分析第31-34页
        3.2.1 扫描电镜(SEM)的表征分析第31-32页
        3.2.2 X射线衍射(XRD)的表征分析第32-33页
        3.2.3 透射电子显微镜(TEM)的表征分析第33-34页
    3.3 不同生长压强下SiO2/Si基底制备Zn_2GeO_4纳米线网的机理研究第34-35页
    3.4 本章小结第35-37页
第4章 无催化剂制备基于柱状电极的横向Zn_2GeO_4纳米线网以及石英基底Zn_2GeO_4纳米线网第37-44页
    4.1 无催化剂基于柱状电极的横向Zn_2GeO_4纳米线网的制备及表征第37-41页
        4.1.1 实验过程第37-39页
        4.1.2 无催化剂制备基于柱状电极Zn_2GeO_4纳米线网的生长机理分析第39-41页
    4.2 石英基底制备Zn_2GeO_4纳米线网第41-42页
        4.2.1 实验过程第41-42页
        4.2.2 Zn_2GeO_4纳米线网的吸收光谱测试第42页
    4.3 本章小结第42-44页
第5章 日盲深紫外光电探测器性能的研究第44-50页
    5.1 日盲DUV光电探测器的制备第44页
    5.2 日盲深紫外探测器的光电测试第44-49页
    5.3 本章小结第49-50页
结论第50-52页
参考文献第52-59页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第59-60页
致谢第60页

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