摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 镁及镁合金的概述 | 第11-12页 |
1.2 镁合金的腐蚀 | 第12-14页 |
1.2.1 镁合金的腐蚀原因 | 第12-13页 |
1.2.2 镁合金的腐蚀原理 | 第13-14页 |
1.2.3 镁合金的腐蚀类型 | 第14页 |
1.3 提高镁合金的耐腐蚀的措施 | 第14-16页 |
1.3.1 镁合金的制备过程 | 第14页 |
1.3.2 镁合金的表面修饰处理 | 第14-15页 |
1.3.3 镁合金的保护膜 | 第15-16页 |
1.3.4 化学转化技术 | 第16页 |
1.4 分子筛 | 第16-19页 |
1.4.1 分子筛的发展 | 第16-18页 |
1.4.2 Y型分子筛 | 第18-19页 |
1.5 环氧树脂和硅烷偶联剂在腐蚀上的应用 | 第19-20页 |
1.5.1 环氧树脂 | 第19页 |
1.5.2 硅烷偶联剂 | 第19-20页 |
1.6 选题的意义和目的 | 第20页 |
1.7 国内外的研究现状 | 第20-22页 |
1.8 论文研究的主要内容 | 第22-23页 |
第2章 实验材料及表征方法 | 第23-29页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第23-25页 |
2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
2.1.2 实验仪器 | 第23-25页 |
2.2 实验材料 | 第25页 |
2.3 镁锂合金表面处理流程和工艺条件 | 第25-26页 |
2.4 镁合金表面环氧树脂涂层的制备 | 第26-27页 |
2.5 实验表征方法 | 第27-29页 |
2.5.1 X射线衍射仪(XRD) | 第27页 |
2.5.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
2.5.3 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第27页 |
2.5.4 电化学测试 | 第27-29页 |
第3章 镁合金表面HY分子筛环氧树脂涂层耐腐蚀性能研究 | 第29-43页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 实验方法 | 第29-30页 |
3.2.1 HY分子筛的制备 | 第29页 |
3.2.2 环氧树脂涂料的制备 | 第29-30页 |
3.2.3 镁合金表面常规预处理 | 第30页 |
3.2.4 镁合金表面环氧树脂涂层的制备 | 第30页 |
3.3 结果与讨论 | 第30-41页 |
3.3.1 HY分子筛结构表征 | 第30页 |
3.3.2 环氧树脂涂层分析 | 第30-32页 |
3.3.3 HY分子筛环氧树脂涂层EIS分析 | 第32-39页 |
3.3.4 涂层表面形貌分析 | 第39-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-43页 |
第4章 硅烷修饰HY分子筛环氧树脂涂层耐腐蚀性能研究 | 第43-55页 |
4.1 引言 | 第43页 |
4.2 实验方法 | 第43-44页 |
4.2.1 硅烷修饰HY分子筛的制备 | 第43页 |
4.2.2 硅烷修饰HY分子筛环氧树脂涂料的制备 | 第43页 |
4.2.3 镁合金表面常规预处理 | 第43-44页 |
4.2.4 镁合金表面环氧树脂涂层的制备 | 第44页 |
4.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
4.3.1 硅烷修饰HY分子筛结构表征 | 第44-46页 |
4.3.2 硅烷修饰HY分子筛的环氧树脂涂层分析 | 第46页 |
4.3.3 硅烷修饰HY分子筛环氧树脂涂之间的反应机理 | 第46-48页 |
4.4 硅烷修饰HY分子筛环氧树脂涂层的EIS分析 | 第48-52页 |
4.5 硅烷修饰HY分子筛环氧树脂涂层的耐腐蚀机理分析 | 第52-53页 |
4.6 本章小结 | 第53-55页 |
第5章 镁合金表面CeY分子筛环氧树脂涂层耐腐蚀性能研究 | 第55-65页 |
5.1 引言 | 第55页 |
5.2 实验方法 | 第55-56页 |
5.2.1 CeY分子筛的制备 | 第55页 |
5.2.2 FSi-13修饰CeY分子筛的制备 | 第55页 |
5.2.3 环氧树脂涂料的制备 | 第55-56页 |
5.2.4 镁合金表面常规预处理 | 第56页 |
5.2.5 镁合金表面环氧树脂涂层的制备 | 第56页 |
5.3 结果与讨论 | 第56-62页 |
5.3.1 CeY分子筛结构表征 | 第56页 |
5.3.2 F硅烷修饰CeY分子筛环氧树脂涂层EIS结果分析 | 第56-60页 |
5.3.3 镁合金表面涂层的形貌分析 | 第60页 |
5.3.4 镁合金表面膜层的耐腐蚀机理 | 第60-62页 |
5.4 本章小结 | 第62-65页 |
结论 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-73页 |
攻读硕士学位期间所发表的论文和科研成果 | 第73-75页 |
致谢 | 第75页 |