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电镀废液旋流电解提镍工艺与中试试验研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第12-26页
    1.1 电镀含镍废水概述第12-13页
    1.2 电镀含镍废水处理技术第13-15页
        1.2.1 化学沉淀法第13-14页
        1.2.2 离子交换法第14页
        1.2.3 膜分离法第14-15页
        1.2.4 生物处理法第15页
        1.2.5 电解法第15页
    1.3 电解法处理含镍废水的研究第15-17页
        1.3.1 膜电解法第15-16页
        1.3.2 微电解法第16页
        1.3.3 脉冲电解法第16页
        1.3.4 喷射电解法第16-17页
        1.3.5 旋流电解法第17页
    1.4 旋流电解技术第17-20页
        1.4.1 旋流电解技术原理第17-19页
        1.4.2 旋流电解技术发展概况第19-20页
    1.5 环保电镀产业园概述第20-22页
        1.5.1 园区基本概况第20-21页
        1.5.2 含镍废水水质及排放标准第21页
        1.5.3 园区含镍废水处理工艺第21-22页
    1.6 研究意义和研究内容第22-23页
        1.6.1 研究意义第22页
        1.6.2 研究内容第22-23页
    1.7 技术路线第23-26页
第2章 旋流电解技术脱铜提镍实验研究方法第26-32页
    2.1 实验材料第26-27页
        2.1.1 主要试剂第26页
        2.1.2 实验设备第26-27页
    2.2 铜、镍的测定方法第27-29页
        2.2.1 原子吸收分光光度法第27-28页
        2.2.2 EDTA滴定法测镍第28-29页
    2.3 实验原理与内容第29-30页
        2.3.1 实验原理第29页
        2.3.2 实验内容第29-30页
    2.4 数据分析第30-32页
        2.4.1 脱除率(回收率)的计算第30页
        2.4.2 电流效率的计算第30-32页
第3章 旋流电解脱铜实验方案及结果分析第32-38页
    3.1 镍浓缩液成分分析第32页
    3.2 铜离子浓度变化规律研究第32-33页
    3.3 脱铜单因素实验第33-35页
        3.3.1 循环流量对脱铜的影响第33-34页
        3.3.2 电流密度对脱铜的影响第34页
        3.3.3 电解液温度对脱铜的影响第34-35页
    3.4 脱铜正交实验第35-38页
第4章 旋流电解提镍实验方案及结果分析第38-44页
    4.1 镍离子浓度变化规律研究第38-39页
    4.2 提镍单因素实验第39-41页
        4.2.1 循环流量对提镍的影响第39页
        4.2.2 电流密度对提镍的影响第39-40页
        4.2.3 电解液pH对提镍的影响第40-41页
        4.2.4 电解液初始温度对提镍的影响第41页
    4.3 提镍正交实验第41-44页
第5章 NDA-36树脂对含镍浓缩液的富集实验研究第44-50页
    5.1 树脂的预处理第44页
    5.2 静态吸附实验第44-45页
        5.2.1 溶液pH值对吸附量的影响第44-45页
        5.2.2 初始浓度及温度对吸附量的影响第45页
    5.3 动态吸附和再生实验第45页
        5.3.1 动态吸附实验第45页
        5.3.2 树脂再生实验第45页
    5.4 静态吸附条件结果分析第45-47页
        5.4.1 溶液pH值对吸附的影响第45-46页
        5.4.2 等温平衡吸附第46-47页
    5.5 动态吸附实验结果分析第47页
    5.6 再生实验结果分析第47-50页
第6章 铜镍电沉积在线回收装置中试试验第50-56页
    6.1 装置概况第50页
    6.2 工程实际应用及遇到的问题第50-54页
        6.2.1 旋流电解中试装置可行性探索实验第50-52页
        6.2.2 旋流电解技术工程实际应用第52-54页
    6.3 旋流电解中试装置的改进第54-56页
第7章 结论与建议第56-58页
    7.1 结论第56-57页
    7.2 建议第57-58页
参考文献第58-64页
攻读学位期间发表的论文及参与的科研项目第64-66页
致谢第66页

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