高衍射效率菲涅尔波带片的制作工艺及衍射特性研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 菲涅尔波带片的加工方法 | 第14-21页 |
| 1.2.1 半导体工艺 | 第15-17页 |
| 1.2.2 单点金刚石车削 | 第17-18页 |
| 1.2.3 灰度直写 | 第18-20页 |
| 1.2.4 模压复制 | 第20-21页 |
| 1.3 波带片的应用 | 第21-27页 |
| 1.3.1 折衍混合系统 | 第21-24页 |
| 1.3.2 x射线成像 | 第24-25页 |
| 1.3.3 衍射望远镜 | 第25-27页 |
| 1.4 本课题的研究意义及研究内容 | 第27-33页 |
| 第2章 波带片的衍射理论研究 | 第33-49页 |
| 2.1 标量衍射理论 | 第33-37页 |
| 2.2 波带片的衍射特性分析 | 第37-44页 |
| 2.2.1 波带片的焦点和色散 | 第37-39页 |
| 2.2.2 波带片的空间分辨率 | 第39-42页 |
| 2.2.3 波带片的衍射效率 | 第42-44页 |
| 2.3 波带片像面光场分布的解析表达 | 第44-48页 |
| 2.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第3章 多台阶波带片制作的关键技术 | 第49-77页 |
| 3.1 多台阶波带片的制作工艺 | 第49-55页 |
| 3.2 点源离子束刻蚀大口径波带片介绍 | 第55-61页 |
| 3.2.1 点源离子束介绍 | 第55-56页 |
| 3.2.2 点源离子束去除函数的建立 | 第56-58页 |
| 3.2.3 驻留时间算法介绍 | 第58-61页 |
| 3.3 300mm口径四台阶波带片的制作 | 第61-71页 |
| 3.3.1 四台阶波带片的刻蚀 | 第61-68页 |
| 3.3.2 四台阶波带片的套刻 | 第68-71页 |
| 3.4 波带片光学性质检测 | 第71-76页 |
| 3.4.1 衍射效率测试 | 第71-73页 |
| 3.4.2 波带片成像性能测试 | 第73-76页 |
| 3.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 第4章 混合台阶波带片制作 | 第77-97页 |
| 4.1 混合台阶波带片介绍 | 第77-79页 |
| 4.2 混合台阶波带片的设计 | 第79-81页 |
| 4.2.1 混合台阶波带片光场解析模型 | 第79-80页 |
| 4.2.2 混合台阶波带片台阶规划方法 | 第80-81页 |
| 4.3 混合台阶波带片的衍射效率分析 | 第81-83页 |
| 4.4 混合台阶波带片实验验证 | 第83-96页 |
| 4.4.1 混合台阶波带片实验验证 | 第83-90页 |
| 4.4.2 混合台阶波带片的衍射特性测试 | 第90-96页 |
| 4.5 本章小结 | 第96-97页 |
| 第5章 多台阶波带片加工误差分析 | 第97-115页 |
| 5.1 衍射效率的线性光栅分析模型 | 第97-98页 |
| 5.2 波带片加工误差分析 | 第98-110页 |
| 5.2.1 线宽误差对衍射效率的影响 | 第99-104页 |
| 5.2.2 刻蚀深度误差对衍射效率的影响 | 第104-107页 |
| 5.2.3 套刻误差对衍射效率的影响 | 第107-110页 |
| 5.3 套刻偏差对综合衍射效率的影响 | 第110-113页 |
| 5.4 本章小节 | 第113-115页 |
| 第6章 结论及展望 | 第115-119页 |
| 6.1 总结 | 第115-116页 |
| 6.2 论文创新点 | 第116-117页 |
| 6.3 工作展望 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-127页 |
| 致谢 | 第127-129页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第129-130页 |
