脉冲电流对氧化钇粉体制备及烧结行为的影响
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-13页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 研究内容 | 第11-13页 |
| 第2章 文献综述 | 第13-25页 |
| 2.1 氧化钇的性质 | 第13-14页 |
| 2.2 氧化钇的应用 | 第14-15页 |
| 2.2.1 结构陶瓷中的应用 | 第14页 |
| 2.2.2 耐火材料方面的应用 | 第14页 |
| 2.2.3 高性能合金中的应用 | 第14-15页 |
| 2.2.4 其它方面的应用 | 第15页 |
| 2.3 脉冲电流的应用 | 第15-16页 |
| 2.3.1 脉冲电流对晶粒形态和尺寸的影响 | 第16页 |
| 2.3.2 脉冲电流对纳米晶材料的影响 | 第16页 |
| 2.4 脉冲电流烧结 | 第16-20页 |
| 2.4.1 脉冲电流烧结简介 | 第16-17页 |
| 2.4.2 脉冲电流烧结原理 | 第17页 |
| 2.4.3 烧结参数对脉冲电流烧结过程的影响 | 第17-19页 |
| 2.4.4 脉冲电流烧结在材料制备方面的应用 | 第19-20页 |
| 2.5 氧化钇粉末的制备 | 第20-23页 |
| 2.5.1 沉淀法 | 第20-22页 |
| 2.5.2 尿素分解法 | 第22页 |
| 2.5.3 喷雾热解法 | 第22-23页 |
| 2.5.4 其他方法 | 第23页 |
| 2.6 氧化钇块体的制备方法 | 第23-25页 |
| 2.6.1 烧结机理及影响因素 | 第23-24页 |
| 2.6.2 烧结方式 | 第24-25页 |
| 第3章 沉淀法制备氧化钇粉体 | 第25-43页 |
| 3.1 实验原料 | 第25页 |
| 3.2 实验设备 | 第25-26页 |
| 3.3 实验装置 | 第26页 |
| 3.4 实验过程 | 第26-28页 |
| 3.4.1 实验方法及步骤 | 第26-27页 |
| 3.4.2 晶体分析与检测 | 第27-28页 |
| 3.5 实验结果与分析 | 第28-34页 |
| 3.5.1 沉淀过程中的pH值变化 | 第28-30页 |
| 3.5.2 洗涤及干燥工艺对前驱沉淀物的影响 | 第30-31页 |
| 3.5.3 前驱物物相的分析 | 第31-32页 |
| 3.5.4 前驱物煅烧温度的选择 | 第32-34页 |
| 3.6 不同工艺条件对氧化钇形貌的影响 | 第34-41页 |
| 3.6.1 沉淀剂种类 | 第34-36页 |
| 3.6.2 反应温度 | 第36-37页 |
| 3.6.3 钇离子浓度 | 第37-39页 |
| 3.6.4 钠离子含量 | 第39-41页 |
| 3.7 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 脉冲电流对氧化钇粉体制备的影响 | 第43-53页 |
| 4.1 实验原料及设备 | 第43页 |
| 4.2 实验装置 | 第43-44页 |
| 4.3 实验步骤 | 第44页 |
| 4.4 脉冲电流对沉淀前驱物及氧化钇的影响 | 第44-47页 |
| 4.5 实验条件的优选 | 第47-52页 |
| 4.5.1 沉淀过程中pH值及电压的变化 | 第47-48页 |
| 4.5.2 不同钇离子摩尔浓度 | 第48-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 氧化钇粉体的脉冲电流烧结 | 第53-65页 |
| 5.1 实验原料 | 第53页 |
| 5.2 实验设备 | 第53-54页 |
| 5.3 实验方案 | 第54-57页 |
| 5.3.1 常压烧结 | 第54-55页 |
| 5.3.2 脉冲电流烧结（PECS） | 第55-57页 |
| 5.4 性能检测 | 第57-59页 |
| 5.4.1 体积收缩率检测 | 第57页 |
| 5.4.2 体积密度及气孔率检测 | 第57-59页 |
| 5.4.3 抗热震性检测 | 第59页 |
| 5.5 结果与讨论 | 第59-64页 |
| 5.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第6章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
