球形公自转抛光工具系统设计及加工工艺研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 常用光学元件加工技术 | 第11-17页 |
| 1.2.1 计算机控制光学表面成型技术 | 第11-12页 |
| 1.2.2 应力盘加工技术 | 第12-13页 |
| 1.2.3 气囊抛光技术 | 第13-14页 |
| 1.2.4 特种抛光技术 | 第14-16页 |
| 1.2.5 常用光学加工技术小结 | 第16-17页 |
| 1.3 公自转加工工具研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3.1 行星式公自转加工工具研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3.2 球形公自转抛光工具研究现状 | 第18-20页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 球形磨头去除函数建模与仿真分析 | 第21-32页 |
| 2.1 光学材料去除函数简介 | 第21-22页 |
| 2.1.1 Preston假设 | 第21-22页 |
| 2.1.2 理想去除函数的特性 | 第22页 |
| 2.2 球形磨头去除函数理论建模 | 第22-28页 |
| 2.2.1 球形磨头压力建模 | 第22-24页 |
| 2.2.2 球形磨头速度建模 | 第24-27页 |
| 2.2.3 球形磨头去除函数建模 | 第27-28页 |
| 2.3 球形磨头去除函数模型仿真分析 | 第28-31页 |
| 2.3.1 公、自转速度对去除函数形状的影响 | 第28-30页 |
| 2.3.2 公、自转速度对去除效率的影响 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 球形公自转抛光工具结构设计及优化 | 第32-47页 |
| 3.1 抛光工具设计的总体技术要求 | 第32-33页 |
| 3.2 球形公自转抛光工具结构设计 | 第33-38页 |
| 3.2.1 结构的性能要求 | 第33页 |
| 3.2.2 公自转运动方式的现实与确定 | 第33-35页 |
| 3.2.3 公自转速比的确定 | 第35-37页 |
| 3.2.4 球形公自转抛光工具机械结构 | 第37-38页 |
| 3.3 零件的选择 | 第38-41页 |
| 3.3.1 公自转机构零件的选择 | 第38-40页 |
| 3.3.2 电动控制机构零件的选择 | 第40-41页 |
| 3.4 球形公自转抛光工具静动态分析 | 第41-46页 |
| 3.4.1 三角传力支撑架静力分析 | 第41-43页 |
| 3.4.2 球形公自转抛光工具模态分析 | 第43-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 音圈电机控制特性分析 | 第47-54页 |
| 4.1 音圈电机简介 | 第47页 |
| 4.2 音圈电机模型方程 | 第47-48页 |
| 4.3 音圈电机谐振实验 | 第48-50页 |
| 4.4 音圈电机压力控制 | 第50-52页 |
| 4.5 音圈电机阶跃响应实验 | 第52-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 球形公自转抛光工具加工工艺研究 | 第54-64页 |
| 5.1 塔建实验平台 | 第54页 |
| 5.2 去除函数与稳定性实验 | 第54-57页 |
| 5.2.1 去除函数实验 | 第54-56页 |
| 5.2.2 去除函数稳定性实验 | 第56-57页 |
| 5.3 工艺参数对去除效率的影响 | 第57-60页 |
| 5.3.1 抛光速度对去除结果的影响 | 第59页 |
| 5.3.2 抛光压力对去除结果的影响 | 第59-60页 |
| 5.4 球形公自转抛光工具的具体应用 | 第60-63页 |
| 5.4.1 碳纤维工件介绍 | 第60-61页 |
| 5.4.2 夹具的设计 | 第61页 |
| 5.4.3 瓜瓣抛物面加工过程 | 第61-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 全文总结 | 第64-65页 |
| 6.2 前景展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第70页 |
