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TC4合金电抛光液配方及工艺研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第8-20页
    1.1 钛及钛合金第8-14页
        1.1.1 钛及钛合金的发展历程及研究进展第8-9页
        1.1.2 钛及钛合金的性质第9-10页
        1.1.3 钛合金的分类第10-11页
        1.1.4 钛及钛合金应用现状及发展前景第11-13页
        1.1.5 钛及钛合金常用的表面处理工艺第13-14页
    1.2 电化学抛光技术第14-18页
        1.2.1 电化学抛光技术的研究概况第14-15页
        1.2.2 电化学抛光技术的基本原理第15-16页
        1.2.3 电化学抛光技术的特点第16-17页
        1.2.4 电化学抛光技术的应用领域第17-18页
    1.3 本课题的研究目的、意义及内容第18-20页
        1.3.1 研究目的及意义第18页
        1.3.2 研究内容第18-20页
第二章 实验材料及研究方法第20-28页
    2.1 实验材料、实验设备及主要化学试剂第20-22页
        2.1.1 实验材料第20页
        2.1.2 实验设备第20-21页
        2.1.3 主要化学试剂第21-22页
    2.2 电化学抛光液的选用及配制第22-23页
    2.3 试验研究方法第23-26页
        2.3.1 单因素试验第25-26页
        2.3.2 正交试验第26页
    2.4 检测及分析方法第26-28页
        2.4.1 表面粗糙度测试第27页
        2.4.2 金相照片分析第27页
        2.4.3 扫描电镜分析第27-28页
第三章 高氯酸-冰醋酸体系电化学抛光的工艺及质量分析第28-39页
    3.1 电化学抛光工艺及参数第28-29页
        3.1.1 试验温度第28页
        3.1.2 电极间距第28-29页
    3.2 电化学抛光操作过程第29-31页
        3.2.1 试样制备第29-30页
        3.2.2 电化学抛光液制备第30页
        3.2.3 电化学抛光试验第30-31页
    3.3 单因素试验结果及分析第31-36页
        3.3.1 溶液配比对表面粗糙度的影响第31-33页
        3.3.2 抛光电压对表面粗糙度的影响第33-34页
        3.3.3 抛光时间对表面粗糙度的影响第34-36页
    3.4 正交试验结果及分析第36-38页
    3.5 本章小结第38-39页
第四章 硫酸-甲醇体系电化学抛光的工艺及质量分析第39-48页
    4.1 硫酸-甲醇系电化学抛光工艺参数及配方探究第39-40页
        4.1.1 阴阳极间距第39页
        4.1.2 电化学抛光液配方探究第39-40页
    4.2 电化学抛光工艺参数的优化第40-44页
        4.2.1 电化学抛光液的优化第41-42页
        4.2.2 抛光电压的优化第42-43页
        4.2.3 抛光时间的优化第43-44页
    4.3 最优工艺参数的确定第44-47页
    4.4 本章小结第47-48页
结论第48-49页
参考文献第49-52页
攻读学位期间取得的研究成果第52-53页
致谢第53页

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