| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| 1.1 金刚石与类金刚石的简介 | 第7-22页 |
| 1.1.1 金刚石与类金刚石的结构 | 第8-9页 |
| 1.1.2 金刚石与类金刚石的性质及应用 | 第9-13页 |
| 1.1.3 金刚石、类金刚石薄膜及纳米线阵列的制备方法 | 第13-21页 |
| 1.1.4 金刚石、类金刚石纳米线阵列的应用 | 第21-22页 |
| 1.2 金刚石、类金刚石纳米线阵列场发射的研究进展 | 第22-23页 |
| 1.2.1 金刚石纳米线阵列场发射的研究进展 | 第22-23页 |
| 1.2.2 类金刚石纳米线阵列场发射的研究进展 | 第23页 |
| 1.3 本论文研究的目的、意义及拟解决的关键问题 | 第23-25页 |
| 第二章 实验过程及样品表征 | 第25-39页 |
| 2.1 实验过程 | 第25-34页 |
| 2.1.1 金刚石膜的制备 | 第26-28页 |
| 2.1.2 类金刚石(DLC)膜的制备 | 第28-30页 |
| 2.1.3 镍掩膜的制备 | 第30-33页 |
| 2.1.4 金刚石、类金刚纳米线阵列的制备 | 第33-34页 |
| 2.1.5 镍掩膜的清洗 | 第34页 |
| 2.2 样品表征 | 第34-39页 |
| 2.2.1 样品结构表征 | 第34-37页 |
| 2.2.2 样品性能表征 | 第37-39页 |
| 第三章 金刚石、类金刚石膜的制备及其结构分析 | 第39-47页 |
| 3.1 金刚石膜的制备及其结构分析 | 第39-42页 |
| 3.1.1 金刚石膜的制备 | 第39-40页 |
| 3.1.2 金刚石膜的结构分析 | 第40-42页 |
| 3.2 类金刚石膜的制备及其结构分析 | 第42-45页 |
| 3.2.1 类金刚石膜的制备 | 第43页 |
| 3.2.2 类金刚石膜的结构分析 | 第43-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 镍掩膜的制备及其形貌分析 | 第47-54页 |
| 4.1 镍掩膜的制备 | 第47页 |
| 4.2 镍掩膜的形貌分析 | 第47-52页 |
| 4.2.1 镍膜厚度对镍掩膜形貌的影响 | 第47-50页 |
| 4.2.2 退火温度对镍掩膜形貌的影响 | 第50-51页 |
| 4.2.3 退火时间对镍掩膜形貌的影响 | 第51-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 金刚石、类金刚石纳米线阵列的制备及其结构分析 | 第54-66页 |
| 5.1 金刚石纳米线阵列的制备及结构分析 | 第54-57页 |
| 5.1.1 刻蚀时间对金刚石纳米线阵列结构的影响 | 第54-57页 |
| 5.2 类金刚石纳米线阵列的制备及结构分析 | 第57-64页 |
| 5.2.1 刻蚀功率对类金刚石纳米线阵列结构的影响 | 第58-60页 |
| 5.2.2 刻蚀时间对类金刚石纳米线阵列结构的影响 | 第60-64页 |
| 5.3 本章小结 | 第64-66页 |
| 第六章 类金刚石纳米线阵列的场发射性能测试 | 第66-68页 |
| 本章小结 | 第67-68页 |
| 第七章 总结 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
