| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-14页 |
| 1.3 研究内容 | 第14页 |
| 1.4 研究技术路线 | 第14-16页 |
| 2 TFT-LCD制造企业概述及模拟对象的选择 | 第16-20页 |
| 2.1 TFT-LCD制造企业概述 | 第16-17页 |
| 2.1.1 生产车间介绍 | 第16页 |
| 2.1.2 生产工艺介绍 | 第16-17页 |
| 2.2 模拟对象选择 | 第17-20页 |
| 2.2.1 列阵车间的光刻工艺 | 第17页 |
| 2.2.2 散逸物质的选择 | 第17-20页 |
| 3 光刻岗位有害气体检测及分布规律研究 | 第20-27页 |
| 3.1 采样点的选择 | 第20-21页 |
| 3.2 实验室方法测定光刻岗位丙二醇甲醚醋酸酯浓度 | 第21-27页 |
| 3.2.1 实验方案 | 第21-26页 |
| 3.2.2 丙二醇甲醚醋酸酯浓度结果分析 | 第26-27页 |
| 4 光刻岗位有害气体扩散的数值模拟基础 | 第27-35页 |
| 4.1 流体力学基础 | 第27-30页 |
| 4.1.1 求解控制方程 | 第27-29页 |
| 4.1.2 控制方程的求解方法 | 第29-30页 |
| 4.2 CFD软件简介 | 第30页 |
| 4.3 TFT-LCD车间光刻岗位的几何模型 | 第30-35页 |
| 4.3.1 几何模型的建立 | 第30-33页 |
| 4.3.2 网格的划分 | 第33页 |
| 4.3.3 边界条件的设置 | 第33-35页 |
| 5 基于FIUENT的有害气体扩散规律与方案优化 | 第35-58页 |
| 5.1 基本模型模拟结果 | 第35-43页 |
| 5.1.1 气流速度场分析 | 第35-38页 |
| 5.1.2 PGMEA浓度场分析 | 第38-42页 |
| 5.1.3 模拟结果与现场对比 | 第42-43页 |
| 5.2 影响PGMEA扩散规律的因素与方案优化 | 第43-58页 |
| 5.2.1 排风口面积对PGMEA扩散规律的影响与优化 | 第44-51页 |
| 5.2.2 排风风量对PGMEA扩散规律的影响与优化 | 第51-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
