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稀土Gd掺杂FeCo薄膜的结构和磁性

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 引言第10-14页
    1.1 软磁薄膜材料第10-11页
    1.2 铁钴基薄膜材料第11-12页
    1.3 稀土(RE)-过渡族(TM)金属间化合物第12-14页
第二章 理论基础第14-27页
    2.1 材料的磁化机制第14-15页
    2.2 磁各向异性理论第15-22页
        2.2.1 磁晶各向异性第16-18页
        2.2.2 形状各向异性第18-20页
        2.2.3 感生磁各向异性第20-21页
        2.2.4 应力各向异性第21-22页
    2.3 磁化反转模型第22-24页
        2.3.1 Stoner-Wohlfarth模型(CR model)第22-23页
        2.3.2 Kondorsky模型(畴壁钉扎模型)第23-24页
    2.4 高频磁性的理论处理第24-27页
第三章 样品的制备与测试第27-36页
    3.1 薄膜样品的制备第27-29页
        3.1.1 溅射镀膜的原理与方法第27-28页
        3.1.2 样品的制备第28-29页
    3.2 薄膜样品的测量第29-36页
        3.2.1 微观结构测量第29-30页
        3.2.2 样品成份的测量第30-31页
        3.2.3 样品的宏观磁性测量第31-33页
        3.2.4 样品的微区磁性测量第33-34页
        3.2.5 薄膜样品厚度的测量第34页
        3.2.6 高频磁导率的测量第34-36页
第四章 Cu/FeCoGd/Ta薄膜的高频软磁特性第36-51页
    4.1 Cu/FeCoGd/Ta薄膜的X射线能量色散谱(EDS)第36-38页
    4.2 Cu/FeCoGd/Ta薄膜的微结构第38-39页
    4.3 Cu/FeCoGd/Ta薄膜的磁性第39-43页
        4.3.1 Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的磁滞回线第39-40页
        4.3.2 Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的各向异性场分布第40-41页
        4.3.3 Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的面内畴结构第41-43页
    4.4 Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的高频特性第43-46页
    4.5 Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的磁化反转机制第46-49页
    4.6 小结第49-51页
第五章 Cu/FeCoGd/Ta薄膜的低温磁特性第51-64页
    5.1 溅射功率为10W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜的低温磁性第51-56页
        5.1.1 溅射功率为10W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的低温磁滞回线第51-52页
        5.1.2 溅射功率为10W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜在不同温度下的剩磁比和矫顽力第52-54页
        5.1.3 溅射功率为10W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品在不同温度下的饱和磁化强度第54页
        5.1.4 溅射功率为10W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的低温各向异性第54-56页
    5.2 溅射功率为15W与20W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜的低温磁性第56-60页
        5.2.1 溅射功率为15W与20W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的低温磁滞回线第56-58页
        5.2.2 溅射功率为15W与20W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品在不同温度下的饱和磁化强度第58-59页
        5.2.3 溅射功率为15W与20W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的低温各向异性第59-60页
    5.3 溅射功率为30W的Cu/FeCoGd/Ta薄膜的低温磁性第60-63页
    5.4 小结第63-64页
第六章 厚度对Cu/FeCoGd/Ta薄膜的结构与磁性的影响第64-69页
    6.1 不同厚度的Cu/FeCoGd/Ta薄膜的微结构第64-65页
    6.2 不同厚度的Cu/FeCoGd/Ta薄膜的静态磁性第65-66页
    6.3 不同厚度的Cu/FeCoGd/Ta薄膜样品的高频特性第66-68页
    6.4 小结第68-69页
第七章 结论第69-71页
参考文献第71-75页
在学期间的研究成果第75-76页
致谢第76页

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