| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-15页 |
| 1.1.1 全息成像概述 | 第12-13页 |
| 1.1.2 表面等离子体概述 | 第13-14页 |
| 1.1.3 金属-介质-金属波导概述 | 第14-15页 |
| 1.2 表面等离子全息的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 本论文所要解决的问题 | 第16-17页 |
| 第二章 表面等离子全息制备工艺的研究 | 第17-30页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 全息成像原理 | 第17-19页 |
| 2.3 全息图条纹干涉的分布特点 | 第19-21页 |
| 2.4 等离子全息图的制备 | 第21-26页 |
| 2.5 表面等离子全息图的形貌表征 | 第26-28页 |
| 2.6 本章小结 | 第28-30页 |
| 第三章 表面等离子全息的测试与特性研究 | 第30-40页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 表面等离子全息图的再现 | 第30-34页 |
| 3.2.1 激光再现 | 第30-32页 |
| 3.2.2 白光再现 | 第32-34页 |
| 3.3 表面等离子全息图的特性测量 | 第34-38页 |
| 3.3.1 等离子全息再现图像的对比度 | 第34页 |
| 3.3.2 表面等离子全息图的光谱测试 | 第34-37页 |
| 3.3.3 表面等离子全息图的偏振测试 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 表面等离子全息特性的理论分析 | 第40-62页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 表面等离子全息的模型研究 | 第40-45页 |
| 4.2.1 金属-介质-金属波导的理论分析 | 第40-42页 |
| 4.2.2 PHG偏振选择性的理论分析 | 第42-45页 |
| 4.3 DiffractMOD仿真结果 | 第45-53页 |
| 4.3.1 Rsoft DiffractMOD软件介绍 | 第45页 |
| 4.3.2 严格耦合波分析简介 | 第45-50页 |
| 4.3.3 PHG等效模型分析 | 第50-53页 |
| 4.4 影响金属纳米光栅偏振选择性的影响因素 | 第53-60页 |
| 4.4.1 入射光角度 | 第53-56页 |
| 4.4.2 狭缝宽度 | 第56-57页 |
| 4.4.3 金属铝膜厚度 | 第57-59页 |
| 4.4.4 光栅介质高度 | 第59-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 主要工作与创新点 | 第62页 |
| 5.2 后续研究工作 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第67-69页 |