| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 自由基简介 | 第10页 |
| 1.3 单硼有机化合物的还原研究进展 | 第10-17页 |
| 1.3.1 硼烯中间体的插入反应 | 第11-13页 |
| 1.3.2 硼-硼多重键 | 第13-14页 |
| 1.3.3 硼负离子的合成及其亲核性 | 第14-15页 |
| 1.3.4 硼自由基 | 第15-17页 |
| 1.4 双硼有机化合物的还原研究进展 | 第17-24页 |
| 1.4.1 硼硼多重键、硼自由基及双硼负离子的合成 | 第17-21页 |
| 1.4.2 含硼多重键化合物的合成 | 第21-24页 |
| 1.5 含硼有机化合物的光物理性质研究进展 | 第24-28页 |
| 1.5.1 硼原子在主链上的共轭聚合物体系 | 第25-26页 |
| 1.5.2 硼原子在末端的线型共轭体系 | 第26-27页 |
| 1.5.3 硼原子在侧链上的线型共轭体系 | 第27-28页 |
| 1.6 选题背景及论文设计 | 第28-30页 |
| 第二章 三联苯双硼化合物的合成及还原反应性研究 | 第30-55页 |
| 2.1 引言 | 第30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-32页 |
| 2.2.1 溶剂处理方式 | 第30-31页 |
| 2.2.2 实验试剂规格及厂家 | 第31页 |
| 2.2.3 实验测试仪器 | 第31-32页 |
| 2.3 三联苯双硼化合物配体1的合成 | 第32-34页 |
| 2.3.1 化合物L1的合成 | 第32-33页 |
| 2.3.2 二(三甲苯基)氟化硼—(Mes_2BF)的合成 | 第33页 |
| 2.3.3 配体1的合成 | 第33-34页 |
| 2.4 还原反应性研究 | 第34-35页 |
| 2.4.1 还原产物1a的合成 | 第34-35页 |
| 2.4.2 还原产物1b的合成 | 第35页 |
| 2.4.3 原产物2的合成 | 第35页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第35-45页 |
| 2.5.1 配体1与还原产物的晶体结构分析 | 第36-38页 |
| 2.5.2 电化学循环伏安 | 第38-39页 |
| 2.5.3 顺磁性质研究与电子自旋密度分布 | 第39-40页 |
| 2.5.4 紫外可见吸收光谱 | 第40-41页 |
| 2.5.5 还原产物的NMR表征 | 第41-43页 |
| 2.5.6 密度泛函理论计算 | 第43-45页 |
| 2.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 附录 | 第46-55页 |
| 第三章 苯基桥联的系列双硼化合物的合成及光物理性质研究 | 第55-77页 |
| 3.1 引言 | 第55页 |
| 3.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 3.2.1 溶剂处理方式 | 第55页 |
| 3.2.2 实验试剂规格及厂家 | 第55-56页 |
| 3.2.3 实验测试仪器 | 第56页 |
| 3.3 系列苯基桥联的双硼有机化合物的合成 | 第56-59页 |
| 3.3.1 化合物3-6的合成 | 第56-57页 |
| 3.3.2 双硼化合物7-10的合成 | 第57-59页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第59-69页 |
| 3.4.1 晶体结构分析 | 第59-62页 |
| 3.4.2 双硼化合物在溶液中的光学性质 | 第62-63页 |
| 3.4.3 双硼化合物的荧光溶剂效应 | 第63-65页 |
| 3.4.4 双硼化合物在固态下的光学性质 | 第65-66页 |
| 3.4.5 化合物的电化学性质 | 第66-68页 |
| 3.4.6 密度泛函理论计算 | 第68-69页 |
| 3.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 附录 | 第70-77页 |
| 论文总结 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-85页 |
| 在学期间的研究成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
