| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第9-12页 |
| 1.1.1 纳米材料概述 | 第9-10页 |
| 1.1.2 金属纳米颗粒的局域表面等离子体谐振 | 第10-12页 |
| 1.1.3 金属纳米结构散射光分析的重要意义 | 第12页 |
| 1.2 AFM在纳米材料领域的应用 | 第12-14页 |
| 1.2.1 利用AFM表征纳米材料 | 第13页 |
| 1.2.2 AFM对纳米颗粒的面内操纵 | 第13-14页 |
| 1.3 金属纳米颗粒的光学显微成像技术综述 | 第14-17页 |
| 1.3.1 荧光显微成像技术 | 第14-15页 |
| 1.3.2 微分干涉相差成像技术 | 第15-16页 |
| 1.3.3 暗场显微成像技术 | 第16-17页 |
| 1.4 暗场成像技术在金属纳米颗粒局域表面等离子体谐振研究方面的发展 | 第17-18页 |
| 1.5 本课题的研究内容 | 第18-21页 |
| 第2章 金属纳米线场增强现象的仿真计算 | 第21-29页 |
| 2.1 金属纳米线场增强现象的数值研究方法 | 第21-23页 |
| 2.1.1 离散偶极子近似法 | 第21-22页 |
| 2.1.2 有限时域差分法 | 第22-23页 |
| 2.1.3 有限元法 | 第23页 |
| 2.2 基于COMSOL的金属纳米线场增强现象的仿真分析 | 第23-28页 |
| 2.2.1 参数设置及结构设计 | 第23-24页 |
| 2.2.2 不同金属纳米结构的散射光场分布 | 第24-28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 基于AFM的银纳米线操纵 | 第29-61页 |
| 3.1 基于AFM的纳米操纵原理与系统 | 第29-37页 |
| 3.1.1 AFM的基本原理 | 第29-30页 |
| 3.1.2 AFM的硬件结构 | 第30-31页 |
| 3.1.3 AFM的基本工作模式 | 第31-32页 |
| 3.1.4 使用AFM进行纳米操纵的基本原理 | 第32-33页 |
| 3.1.5 操纵对象和探针的选择 | 第33-34页 |
| 3.1.6 纳米操纵的软硬件实现 | 第34-37页 |
| 3.2 实验部分 | 第37-58页 |
| 3.2.1 金纳米棒的试制 | 第37-38页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第38-40页 |
| 3.2.3 制样遇到的问题 | 第40-41页 |
| 3.2.4 操纵探针准备 | 第41页 |
| 3.2.5 银纳米线溶液浓度实验和样品基片标记 | 第41-45页 |
| 3.2.6 银纳米线的切割、移动和摆放 | 第45-50页 |
| 3.2.7 目标银纳米线的选择和定位 | 第50-51页 |
| 3.2.8 单根型和单个“L”型银纳米线的操纵实验 | 第51-54页 |
| 3.2.9 AFM操纵误差实验 | 第54-58页 |
| 3.3 银纳米线操纵误差分析 | 第58-59页 |
| 3.3.1 硬件条件对银纳米线操纵精度的影响 | 第58-59页 |
| 3.3.2 参数设置对银纳米线操纵精度的影响 | 第59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 银纳米线结构的暗场散射光谱表征研究 | 第61-81页 |
| 4.1 暗场显微镜原理 | 第61-64页 |
| 4.1.1 透射式暗场显微镜 | 第61-62页 |
| 4.1.2 反射式暗场显微镜 | 第62-64页 |
| 4.2 散射光谱测量系统的设计 | 第64-66页 |
| 4.3 散射光谱测量系统的实现 | 第66-69页 |
| 4.3.1 光源的选择 | 第66-68页 |
| 4.3.2 CCD的切换与选择 | 第68-69页 |
| 4.3.3 系统搭建 | 第69页 |
| 4.4 暗场散射光谱成像实验部分 | 第69-79页 |
| 4.4.1 暗场散射光谱实验系统的性能测试 | 第69-76页 |
| 4.4.2 银纳米线结构暗场散射光成像实验 | 第76-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 第5章 总结与展望 | 第81-83页 |
| 5.1 总结 | 第81-82页 |
| 5.2 展望 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
