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基于纳米压痕技术的薄膜残余应力研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
第1章 绪论第11-21页
    1.1 表面工程第11-12页
        1.1.1 表面工程概述第11页
        1.1.2 磁控溅射技术第11-12页
    1.2 残余应力的产生及测量方法第12-14页
        1.2.1 薄膜中残余应力的产生原因第12-13页
        1.2.2 薄膜中应力的测量方法第13-14页
    1.3 纳米压痕测试技术第14-19页
        1.3.1 纳米压痕技术的基本原理第14-16页
        1.3.2 纳米压痕法计算残余应力的研究现状第16-19页
    1.4 课题来源及研究背景第19-21页
        1.4.1 课题来源第19页
        1.4.2 课题研究背景第19页
        1.4.3 课题研究内容第19-21页
第2章 实验设备及方法第21-25页
    2.1 试验材料第21页
    2.2 直流磁控溅射设备第21-22页
    2.3 微观分析设备第22页
        2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)第22页
        2.3.2 透射电子显微镜(TEM)第22页
        2.3.3 激光显微镜第22页
        2.3.4 X射线衍射仪第22页
    2.4 应力测量设备第22-24页
        2.4.1 电子薄膜应力分布测试仪第22-23页
        2.4.2 纳米压痕设备第23-24页
    2.5 本章小结第24-25页
第3章 薄膜的制备及表征第25-41页
    3.1 前言第25页
    3.2 溅射功率对Ti薄膜的影响第25-28页
        3.2.1 基准工艺下薄膜形貌及能谱分析第26-27页
        3.2.2 基准工艺条件下Ti薄膜厚度测定第27-28页
    3.3 不同基底温度下制备的Ti薄膜第28-29页
        3.3.1 基底温度对Ti薄膜表面形貌的影响第28-29页
        3.3.2 基底温度对Ti薄膜成分和相结构的影响第29页
    3.4 溅射时间对薄膜表面形貌和晶粒尺寸的影响第29-31页
        3.4.1 不同溅射时间的Ti薄膜表面形貌分析第29-31页
        3.4.2 溅射时间对Ti薄膜成分和结晶取向的影响第31页
    3.5 不同溅射偏压对Ti薄膜的影响第31-33页
        3.5.1 不同溅射偏压下制备的Ti薄膜形貌图第31-32页
        3.5.2 不同溅射偏压对薄膜生长的影响第32-33页
    3.6 TiN薄膜基准工艺参数的设定第33-36页
        3.6.1 设定工艺参数溅射沉积TiN薄膜形貌第34-35页
        3.6.2 设定工艺参数溅射沉积TiN薄膜结构第35-36页
    3.7 Ti/TiN多层薄膜工艺参数设定第36-39页
        3.7.1 设定工艺下不同调制周期Ti/TiN多层薄膜的形貌及成分分析第36-38页
        3.7.2 设定工艺下不同调制周期Ti/TiN多层薄膜的结构分析第38-39页
    3.8 本章小结第39-41页
第4章 纳米压痕技术测量薄膜的残余应力第41-58页
    4.1 前沿第41页
    4.2 不同基底温度Ti薄膜力学性能的变化第41-45页
        4.2.1 不同沉积温度Ti薄膜硬度和弹性模量的变化第41-42页
        4.2.2 不同沉积温度Ti薄膜残余应力的变化第42-45页
    4.3 不同溅射时间对Ti薄膜硬度及弹性模量的影响第45-48页
        4.3.1 不同溅射时间薄膜力学性能的变化第45-46页
        4.3.2 不同沉积时间对Ti薄膜残余应力的影响第46-48页
    4.4 不同溅射偏压对Ti薄膜性能的影响第48-51页
        4.4.1 不同溅射偏压对薄膜力学性能的影响第48-49页
        4.4.2 不同溅射偏压对Ti薄膜残余应力的影响第49-51页
    4.5 TiN和Ti/TiN多层薄膜的性能研究第51-56页
        4.5.1 TiN和Ti/TiN多层薄膜的力学性能分析第51-52页
        4.5.2 TiN和Ti/TiN多层薄膜的残余应力分析第52-56页
    4.6 本章小结第56-58页
第5章 有限元模拟薄膜材料纳米压痕过程第58-70页
    5.1 前沿第58-59页
    5.2 材料塑性性能确定第59-61页
    5.3 压痕模型建立第61-64页
        5.3.1 几何模型及材料属性的建立第61-62页
        5.3.2 设置分析步第62-63页
        5.3.3 定义边界条件第63页
        5.3.4 网格划分第63-64页
    5.4 有限元模拟结果第64-69页
        5.4.1 TiN薄膜模拟结果第64-66页
        5.4.2 Ti/TiN多层薄膜的模拟分析第66-69页
    5.5 本章小结第69-70页
结论第70-71页
参考文献第71-77页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第77-78页
致谢第78页

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