二氧化钒薄膜制备及掺Au对其相变性能影响的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·二氧化钒的晶体结构 | 第11-15页 |
| ·晶体结构 | 第11-13页 |
| ·相变过程中晶体的结构和能带变化 | 第13-15页 |
| ·二氧化钒薄膜的性质 | 第15-16页 |
| ·二氧化钒薄膜的应用前景 | 第16-17页 |
| ·智能玻璃窗 | 第16页 |
| ·光学开关 | 第16-17页 |
| ·激光防护 | 第17页 |
| ·热敏电阻,红外热像仪 | 第17页 |
| ·其它应用 | 第17页 |
| ·掺杂对二氧化钒的影响 | 第17-18页 |
| ·本文的主要工作 | 第18-19页 |
| 第二章 二氧化钒薄膜的制备 | 第19-25页 |
| ·二氧化钒薄膜制备方法 | 第19-22页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第19页 |
| ·化学气相沉积法(CVD法) | 第19-20页 |
| ·真空蒸镀法 | 第20-21页 |
| ·溅射法 | 第21-22页 |
| ·射频磁控溅射制备二氧化钒薄膜 | 第22-24页 |
| ·射频磁控溅射原理及特征 | 第22页 |
| ·射频磁控溅射制备二氧化钒薄膜的实验仪器及参数 | 第22-23页 |
| ·射频磁控溅射制备二氧化钒薄膜的实验步骤 | 第23-24页 |
| ·二氧化钒薄膜的退火处理 | 第24-25页 |
| 第三章 二氧化钒薄膜的掺杂 | 第25-35页 |
| ·掺杂方法 | 第25-26页 |
| ·Au纳米颗粒阵列的制备 | 第26-34页 |
| ·纳米球掩膜板的制备 | 第26-27页 |
| ·聚苯乙烯纳米微球掩膜板的制备方法 | 第27-33页 |
| ·磁控溅射进行薄膜沉积 | 第33页 |
| ·去除掩模板,得到纳米颗粒阵列 | 第33-34页 |
| ·制备掺杂Au纳米颗粒阵列的二氧化钒薄膜 | 第34页 |
| ·本章实验总结 | 第34-35页 |
| 第四章 二氧化钒薄膜性质测试 | 第35-58页 |
| ·二氧化钒薄膜电学特性测试 | 第35-48页 |
| ·实验原理 | 第35页 |
| ·实验仪器 | 第35-36页 |
| ·实验结果 | 第36-48页 |
| ·二氧化钒薄膜的光学性质测试 | 第48-53页 |
| ·实验原理及实验仪器 | 第48-49页 |
| ·实验结果 | 第49-53页 |
| ·XRD测试 | 第53-55页 |
| ·XRD测试原理 | 第53页 |
| ·测试结果 | 第53-55页 |
| ·SEM测试 | 第55-56页 |
| ·SEM原理 | 第55页 |
| ·SEM测试结果 | 第55-56页 |
| ·AFM测试 | 第56-58页 |
| ·AFM原理 | 第56-57页 |
| ·AFM测试结果 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 作者简历 | 第64-66页 |
| 学位论文数据集 | 第66页 |
