| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 存储器简介 | 第11-15页 |
| 1.1.1 易失性存储器 | 第12-13页 |
| 1.1.2 非易失性存储器 | 第13-15页 |
| 1.2 阻变随机存储器简介及工作原理 | 第15-19页 |
| 1.2.1 阻变随机存储器简介 | 第15-17页 |
| 1.2.2 阻变随机存储器的工作原理 | 第17-19页 |
| 1.3 阻变随机存储器制备 | 第19-20页 |
| 1.4 阻变随机存储器的应用与面临的挑战 | 第20-22页 |
| 1.5 本论文的工作意义、目的和内容 | 第22-24页 |
| 第二章 阻变随机存储器的制备工艺和性能表征 | 第24-38页 |
| 2.1 阻变随机存储器的制备工艺 | 第24-30页 |
| 2.1.1 光刻工艺 | 第24-25页 |
| 2.1.2 等离子刻蚀工艺 | 第25-27页 |
| 2.1.3 真空蒸镀 | 第27页 |
| 2.1.4 原子层沉积 | 第27-28页 |
| 2.1.5 化学气相沉积 | 第28-29页 |
| 2.1.6 硅片清洗工艺 | 第29-30页 |
| 2.2 薄膜材料表征 | 第30-31页 |
| 2.2.1 椭圆偏振光测量 | 第30-31页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱 | 第31页 |
| 2.3 阻变随机存储器的性能表征 | 第31-33页 |
| 2.3.1 存储窗口 | 第31-32页 |
| 2.3.2 操作电压电流 | 第32页 |
| 2.3.3 耐久特性 | 第32页 |
| 2.3.4 保持特性 | 第32-33页 |
| 2.3.5 擦写速度 | 第33页 |
| 2.4 工艺的优化 | 第33-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 超大窗口阻变随机存储器的制备与结果分析 | 第38-56页 |
| 3.1 实验方案 | 第38-40页 |
| 3.2 超大窗口阻变随机存储器工艺制备 | 第40-44页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第44-53页 |
| 3.3.1 样品的材料表征 | 第44-45页 |
| 3.3.2 电学特性结果讨论 | 第45-53页 |
| 3.4 器件特性机理分析 | 第53-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 超大存储窗口阻变随机存储器的集成与应用技术探讨 | 第56-68页 |
| 4.1 阻变随机存储器模型 | 第56-57页 |
| 4.2 阻变随机存储器件的有源集成 | 第57-60页 |
| 4.3 阻变随机存储器件的布尔运算 | 第60-63页 |
| 4.4 阻变存储器在rFPGA电路中应用 | 第63-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |