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金属在锗/硅烯表面吸附的第一性原理研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-28页
    1.1 引言第10页
    1.2 硅烯的介绍第10-18页
        1.2.1 硅烯的电子特性第10-12页
        1.2.2 硅烯的实验进展第12-14页
        1.2.3 金属吸附硅烯的特性研究第14-18页
    1.3 锗烯的介绍第18-23页
        1.3.1 锗烯的电子特性第18-19页
        1.3.2 锗烯的实验进展第19-21页
        1.3.3 金属吸附锗烯的特性研究第21-23页
    1.4 本论文的研究内容第23-25页
    参考文献第25-28页
第二章 第一性原理计算理论第28-34页
    2.1 从头计算方法第28-29页
    2.2 密度泛函理论第29-31页
    2.3 计算软件简介第31-32页
    参考文献第32-34页
第三章 独立的硅锗合金片层特性研究第34-40页
    3.1 计算参数设置第34页
    3.2 硅锗合金片层的结构特性第34-36页
    3.3 硅锗合金片层的电子特性第36-37页
    3.4 本章小结第37-38页
    参考文献第38-40页
第四章 碱金属吸附的硅锗合金片层特性研究第40-54页
    4.1 计算参数设置第40页
    4.2 计算结果与讨论第40-52页
        4.2.1 吸附体系结构组成第40-42页
        4.2.2 吸附体系的吸附能与稳定性第42-43页
        4.2.3 吸附体系的结构参数第43-46页
        4.2.4 吸附体系的电子结构第46-48页
        4.2.5 吸附体系电子特性的调控第48-52页
    4.3 本章小结第52-53页
    参考文献第53-54页
第五章 总结与展望第54-56页
    5.1 论文总结第54-55页
    5.2 研究展望第55-56页
致谢第56-58页
攻读学位期间发表的学术论文目录第58页

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