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Cr膜Nd-YAG脉冲激光的氧化与刻蚀

第一章 绪 论第7-15页
    1.1 引言第7-8页
    1.2 金属及其合金氧化问题的研究进展第8-9页
    1.3 激光在表面加工中的应用第9-10页
    1.4 氧化方法在微细加工技术中的应用研究进展第10-12页
        1.4.1 平面光刻技术(Photolithography)第10页
        1.4.2 平面光刻技术的应用局限第10-11页
        1.4.3 平面光刻技术面临的挑战第11-12页
    1.5 激光氧化在微细加工中的应用前景第12-13页
    1.6 选题意义第13-15页
第二章 研究内容及实验方法第15-19页
    2.1 研究内容第15-16页
        2.1.1 工艺性研究第15页
        2.1.2 微观组织和结构表征及分析第15-16页
        2.1.3 理论研究第16页
    2.2 实验方法第16-19页
        2.2.1 衬底材料第16-17页
        2.2.2 Cr膜蒸发沉积第17页
        2.2.3 激光氧化工艺参数第17-19页
第三章 Cr膜的激光表面氧化温度场第19-25页
    3.1 引言第19页
    3.2 激光光斑上的能量分布第19-20页
    3.3 基本假设第20-21页
    3.4 瞬态温度场的解析第21-22页
    3.5 单脉冲激光对Cr膜表面辐照的瞬态温度场的描述第22-24页
    3.6 本章小结第24-25页
第四章 Cr膜Nd-YAG脉冲激光氧化的表面微观组织结构第25-38页
    4.1 引言第25-27页
    4.2 Cr膜激光表面氧化的微观组织结构第27-34页
        4.2.1 Cr膜激光表面弱氧化-类织构形貌逐渐消失第27页
        4.2.2 表面氧化物的烧结现象第27-32页
        4.2.3 非线性现象第32-34页
    4.3 Cr膜激光表面氧化机理第34-36页
        4.3.1 扩散控制的氧化第34-35页
        4.3.2 蒸发机制控制的氧化第35-36页
    4.4 本章小结第36-38页
第五章 Cr膜Nd-YAG脉冲激光氧化过程中的微观应力行为第38-49页
    5.1 引言第38-40页
        5.1.1 金属中氧的溶解第38页
        5.1.2 Pilling-Bedworth 比(PBR)第38-39页
        5.1.3 氧化物在薄膜中的变化第39页
        5.1.4 氧化物生长机制第39-40页
    5.2 微观应力的x射线表征第40-42页
    5.3 Cr膜的原始应力状态第42页
    5.4 激光氧化过程中Cr2O3的生长应力第42-44页
    5.5 褶皱和裂纹第44-46页
        5.5.1 褶皱第44页
        5.5.2 显微裂纹第44页
        5.5.3 宏观裂纹第44-46页
        5.5.4 界面传质第46页
    5.6 刻蚀的初步研究第46-48页
    5.7 本章小结第48-49页
第六章 结论第49-50页
附录第50-52页
致谢第52-53页
参考文献第53-61页
摘要第61-64页
Abstract第64页

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