第一章 绪 论 | 第7-15页 |
1.1 引言 | 第7-8页 |
1.2 金属及其合金氧化问题的研究进展 | 第8-9页 |
1.3 激光在表面加工中的应用 | 第9-10页 |
1.4 氧化方法在微细加工技术中的应用研究进展 | 第10-12页 |
1.4.1 平面光刻技术(Photolithography) | 第10页 |
1.4.2 平面光刻技术的应用局限 | 第10-11页 |
1.4.3 平面光刻技术面临的挑战 | 第11-12页 |
1.5 激光氧化在微细加工中的应用前景 | 第12-13页 |
1.6 选题意义 | 第13-15页 |
第二章 研究内容及实验方法 | 第15-19页 |
2.1 研究内容 | 第15-16页 |
2.1.1 工艺性研究 | 第15页 |
2.1.2 微观组织和结构表征及分析 | 第15-16页 |
2.1.3 理论研究 | 第16页 |
2.2 实验方法 | 第16-19页 |
2.2.1 衬底材料 | 第16-17页 |
2.2.2 Cr膜蒸发沉积 | 第17页 |
2.2.3 激光氧化工艺参数 | 第17-19页 |
第三章 Cr膜的激光表面氧化温度场 | 第19-25页 |
3.1 引言 | 第19页 |
3.2 激光光斑上的能量分布 | 第19-20页 |
3.3 基本假设 | 第20-21页 |
3.4 瞬态温度场的解析 | 第21-22页 |
3.5 单脉冲激光对Cr膜表面辐照的瞬态温度场的描述 | 第22-24页 |
3.6 本章小结 | 第24-25页 |
第四章 Cr膜Nd-YAG脉冲激光氧化的表面微观组织结构 | 第25-38页 |
4.1 引言 | 第25-27页 |
4.2 Cr膜激光表面氧化的微观组织结构 | 第27-34页 |
4.2.1 Cr膜激光表面弱氧化-类织构形貌逐渐消失 | 第27页 |
4.2.2 表面氧化物的烧结现象 | 第27-32页 |
4.2.3 非线性现象 | 第32-34页 |
4.3 Cr膜激光表面氧化机理 | 第34-36页 |
4.3.1 扩散控制的氧化 | 第34-35页 |
4.3.2 蒸发机制控制的氧化 | 第35-36页 |
4.4 本章小结 | 第36-38页 |
第五章 Cr膜Nd-YAG脉冲激光氧化过程中的微观应力行为 | 第38-49页 |
5.1 引言 | 第38-40页 |
5.1.1 金属中氧的溶解 | 第38页 |
5.1.2 Pilling-Bedworth 比(PBR) | 第38-39页 |
5.1.3 氧化物在薄膜中的变化 | 第39页 |
5.1.4 氧化物生长机制 | 第39-40页 |
5.2 微观应力的x射线表征 | 第40-42页 |
5.3 Cr膜的原始应力状态 | 第42页 |
5.4 激光氧化过程中Cr2O3的生长应力 | 第42-44页 |
5.5 褶皱和裂纹 | 第44-46页 |
5.5.1 褶皱 | 第44页 |
5.5.2 显微裂纹 | 第44页 |
5.5.3 宏观裂纹 | 第44-46页 |
5.5.4 界面传质 | 第46页 |
5.6 刻蚀的初步研究 | 第46-48页 |
5.7 本章小结 | 第48-49页 |
第六章 结论 | 第49-50页 |
附录 | 第50-52页 |
致谢 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-61页 |
摘要 | 第61-64页 |
Abstract | 第64页 |