多矢量偏振光栅阵列性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 偏振探测技术研究现状 | 第7-9页 |
| 1.2.1 国内研究现状 | 第8页 |
| 1.2.2 国外研究现状 | 第8-9页 |
| 1.3 研究的目的及意义 | 第9-10页 |
| 1.4 论文结构安排 | 第10-12页 |
| 第二章 偏振成像探测技术的理论基础 | 第12-20页 |
| 2.1 偏振光 | 第12页 |
| 2.2 偏振光的表达方式 | 第12-16页 |
| 2.2.1 斯托克斯矢量表达法 | 第12-14页 |
| 2.2.2 琼斯矢量表达法 | 第14-15页 |
| 2.2.3 邦加球表达法 | 第15-16页 |
| 2.3 偏振探测的基本方法 | 第16-19页 |
| 2.3.1 分时偏振探测法 | 第16页 |
| 2.3.2 分振幅偏振探测法 | 第16-17页 |
| 2.3.3 分孔径偏振探测方法 | 第17-18页 |
| 2.3.4 分焦平面偏振探测方法 | 第18-19页 |
| 2.4 本章小结 | 第19-20页 |
| 第三章 光栅结构的FDTD仿真 | 第20-25页 |
| 3.1 仿真软件 | 第20页 |
| 3.2 金属光栅的模型建立 | 第20-22页 |
| 3.2.1 不同基底厚度比 | 第21页 |
| 3.2.2 阿基米德螺线结构 | 第21-22页 |
| 3.3 微纳光栅结构串扰噪声仿真 | 第22-24页 |
| 3.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第四章 纳米偏振光栅结构的制备 | 第25-36页 |
| 4.1 电子束曝光技术 | 第25-26页 |
| 4.2 离子束刻蚀技术 | 第26-28页 |
| 4.3 偏振探测阵列制备 | 第28-32页 |
| 4.3.1 纳米光栅偏振探测阵列的设计 | 第28-31页 |
| 4.3.2 Al纳米光栅阵列的工艺流程 | 第31-32页 |
| 4.4 光栅结构质量检测 | 第32-35页 |
| 4.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第五章 纳米光栅阵列的性能分析 | 第36-45页 |
| 5.1 光栅阵列特性表征 | 第36-39页 |
| 5.1.1 测试光路搭建 | 第36页 |
| 5.1.2 光栅阵列输出光强响应 | 第36-37页 |
| 5.1.3 偏振特征参数测试 | 第37-39页 |
| 5.2 偏振探测结构的信噪比 | 第39-43页 |
| 5.2.1 偏振光栅阵列的信噪比 | 第39-41页 |
| 5.2.2 信噪比影响因素分析 | 第41-43页 |
| 5.3 偏振探测光栅阵列评估 | 第43-44页 |
| 5.3.1 工艺制备 | 第43-44页 |
| 5.3.2 工艺校准 | 第44页 |
| 5.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第六章 总结与展望 | 第45-47页 |
| 6.1 总结 | 第45页 |
| 6.2 展望 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 作者简介及科研成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
