| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 能源发展综述 | 第12-15页 |
| 1.1.1 能源发展现状 | 第12-14页 |
| 1.1.2 核能发展及现状 | 第14-15页 |
| 1.2 核反应系统 | 第15-21页 |
| 1.2.1 聚变堆反应原理 | 第15-17页 |
| 1.2.2 第一壁材料简介 | 第17-18页 |
| 1.2.3 核能材料的辐照损伤 | 第18-21页 |
| 1.3 氦的引入及影响 | 第21-25页 |
| 1.3.1 材料中引入氦的方式 | 第21-22页 |
| 1.3.2 氦泡的演化 | 第22-24页 |
| 1.3.3 核用不锈钢及其弥散强化 | 第24-25页 |
| 1.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第2章 分析测试手段 | 第26-38页 |
| 2.1 X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD) | 第26-28页 |
| 2.1.1 X射线衍射仪结构 | 第26-27页 |
| 2.1.2 X射线衍射仪工作原理 | 第27-28页 |
| 2.2 场发射扫描电子显微镜(Field Emission Scanning Electron Microscope,FESEM) | 第28-29页 |
| 2.2.1 扫描电镜的原理和构造 | 第28-29页 |
| 2.3 透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, TEM) | 第29-31页 |
| 2.3.1 透射电镜的结构与原理 | 第29-30页 |
| 2.3.2 离子减薄仪(Precision Ion Polishing System, PIPS) | 第30-31页 |
| 2.4 X射线光电子谱仪(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) | 第31-32页 |
| 2.5 等离子体发射光谱仪(Inductively Coupled Plasma-Atomic EmissionSpectrometry, ICP-AES) | 第32-33页 |
| 2.6 纳米压痕仪(Nanoindentator) | 第33-35页 |
| 2.7 热脱附谱(Thermal Desorption Spectroscopy, TDS) | 第35-36页 |
| 2.8 本章小结 | 第36-38页 |
| 第3章 磁控溅射制备FeCr/ODS-FeCr基薄膜的制备及表征 | 第38-56页 |
| 3.1 磁控溅射的技术原理 | 第38-41页 |
| 3.2 衬底和靶材的制备 | 第41-42页 |
| 3.3 直流磁控溅射制备FeCr基薄膜 | 第42-47页 |
| 3.3.1 制备FeCr基薄膜的过程 | 第42-43页 |
| 3.3.2 实验结果的分析讨论 | 第43-47页 |
| 3.4 射频磁控溅射制备Y_2O_3-ODS-FeCr基薄膜 | 第47-53页 |
| 3.4.1 制备ODS-FeCr基薄膜的过程 | 第47-49页 |
| 3.4.2 实验结果的分析讨论 | 第49-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-56页 |
| 第4章 含氦ODS-FeCr基薄膜性能研究及氦的演化 | 第56-68页 |
| 4.1 含氦ODS-FeCr基薄膜的性能表征 | 第56-59页 |
| 4.1.1 含氦ODS-FeCr基薄膜的制备 | 第56-57页 |
| 4.1.2 实验结果与讨论 | 第57-59页 |
| 4.2 含氦ODS-FeCr基薄膜的退火研究 | 第59-63页 |
| 4.2.1 不同温度保温1h退火薄膜分析 | 第59-60页 |
| 4.2.2 相同温度不同保温时间下薄膜分析 | 第60-61页 |
| 4.2.3 不同氦含量同条件退火薄膜分析 | 第61-63页 |
| 4.3 不同温度下氦泡的演化行为 | 第63-65页 |
| 4.3.1 退火前后材料内氦的变化分析 | 第63-64页 |
| 4.3.2 不同温度退火的氦行为探究 | 第64-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-68页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第68-70页 |
| 5.1 本文创新点及结论 | 第68页 |
| 5.2 当前工作展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78页 |
