| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 聚合物的分类 | 第10-18页 |
| 1.2.1 聚丙烯酸酯类 | 第11-13页 |
| 1.2.2 聚异氰化物类 | 第13-14页 |
| 1.2.3 聚胍类 | 第14页 |
| 1.2.4 聚硅烷类 | 第14-15页 |
| 1.2.5 聚异氰酸酯类 | 第15页 |
| 1.2.6 聚烯烃类 | 第15-16页 |
| 1.2.7 聚炔类 | 第16-18页 |
| 1.3 螺旋聚合物的合成方法 | 第18-19页 |
| 1.4 螺旋聚合物的表征方法 | 第19-20页 |
| 1.5 螺旋聚合物的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.6 席夫碱概述 | 第21页 |
| 1.6.1 席夫碱的合成 | 第21页 |
| 1.6.2 席夫碱金属配合物 | 第21页 |
| 1.7 本论文的设计思想及主要内容 | 第21-23页 |
| 2 含亚胺基团和胺基的螺旋聚炔的合成及其光学性质 | 第23-42页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验试剂和仪器 | 第24页 |
| 2.3 单体的合成与表征 | 第24-26页 |
| 2.4 聚合物的合成与表征 | 第26-27页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第27-40页 |
| 2.5.1 单体的合成与聚合反应 | 第27-32页 |
| 2.5.2 含席夫碱基团的螺旋聚合物2a-c的光学性质 | 第32-35页 |
| 2.5.3 含胺基的螺旋聚合物2d和2e的光学性质 | 第35-38页 |
| 2.5.4 含胺基的螺旋聚合物2d对pH的刺激响应性 | 第38-40页 |
| 2.5.5 聚合物的热稳定性 | 第40页 |
| 2.6 小结 | 第40-42页 |
| 3 含亚胺基团和羟基的螺旋聚炔的合成及其光学性质 | 第42-64页 |
| 3.1 引言 | 第42-43页 |
| 3.2 实验试剂和仪器 | 第43页 |
| 3.3 单体的合成与表征 | 第43-45页 |
| 3.4 聚合物的合成与表征 | 第45-46页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第46-62页 |
| 3.5.1 单体的合成和聚合反应 | 第46-52页 |
| 3.5.2 含席夫碱基团和酚羟基的聚合物2f和2g的光学性质 | 第52-56页 |
| 3.5.3 含席夫碱和自由羟基的聚合物2h的光学性质 | 第56-58页 |
| 3.5.4 含席夫碱和自由羟基的聚合物2h对硫酸氢根的响应性 | 第58-59页 |
| 3.5.5 聚合物2f与金属离子的络合物 | 第59-62页 |
| 3.6 小结 | 第62-63页 |
| 3.7 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
