摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
图目录 | 第12-15页 |
表目录 | 第15-16页 |
主要符号表 | 第16-19页 |
1 绪论 | 第19-41页 |
1.1 研究背景与意义 | 第19-21页 |
1.2 纳米通道制造研究现状 | 第21-39页 |
1.2.1 纳米沟槽制造方法 | 第22-33页 |
1.2.2 纳米模具制造技术 | 第33-37页 |
1.2.3 热塑性聚合物流动性分析 | 第37-38页 |
1.2.4 纳米沟槽键合方法 | 第38-39页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第39-41页 |
2 热压成型聚合物二维纳米沟槽的理论研究 | 第41-56页 |
2.1 粘弹性模型 | 第41-46页 |
2.1.1 基础模型 | 第41-42页 |
2.1.2 Maxwell模型 | 第42-45页 |
2.1.3 广义Maxwell模型 | 第45-46页 |
2.2 蠕变柔量与松弛模量的关系 | 第46-48页 |
2.3 粘弹性材料的蠕变型本构方程 | 第48-49页 |
2.4 时温等效原理 | 第49-50页 |
2.5 热塑性聚合物热压成型机理 | 第50-52页 |
2.6 压缩型蠕变本构方程的推导 | 第52-55页 |
2.7 本章小结 | 第55-56页 |
3 二维纳米硅模具制造 | 第56-83页 |
3.1 模具制造总体方案 | 第56-58页 |
3.2 模具制造过程 | 第58-66页 |
3.2.1 微米尺度光刻胶台阶的制作 | 第58-60页 |
3.2.2 纳米尺度金薄膜的沉积 | 第60-62页 |
3.2.3 水平方向金薄膜的去除 | 第62页 |
3.2.4 光刻胶台阶的去除 | 第62-63页 |
3.2.5 二维纳米硅模具的刻蚀成型 | 第63-66页 |
3.3 实验研究与结果分析 | 第66-81页 |
3.3.1 光刻胶台阶结构对纳米模具凸起结构线条宽度的影响 | 第66-69页 |
3.3.2 溅射刻蚀金薄膜参数优化 | 第69-73页 |
3.3.3 深反应离子刻蚀硅参数优化 | 第73-81页 |
3.4 本章小结 | 第81-83页 |
4 聚合物二维纳米沟槽的热压成型方法研究 | 第83-104页 |
4.1 热压设备 | 第83-85页 |
4.2 PET二维纳米沟槽的热压成型研究 | 第85-99页 |
4.2.1 数值仿真 | 第85-93页 |
4.2.2 实验研究 | 第93-99页 |
4.3 PMMA二维纳米沟槽的热压成型研究 | 第99-103页 |
4.4 本章小结 | 第103-104页 |
5 聚合物二维纳米沟槽的键合方法研究 | 第104-125页 |
5.1 实验材料及方法 | 第105-107页 |
5.1.1 实验材料 | 第105页 |
5.1.2 实验方案 | 第105页 |
5.1.3 微米模具的制造 | 第105-106页 |
5.1.4 表面改性辅助的热键合工艺 | 第106-107页 |
5.2 氧等离子体表面处理参数优化 | 第107-109页 |
5.3 热键合PMMA-PET二维纳米通道 | 第109-118页 |
5.3.1 热键合参数对PMM-PET二维纳米通道键合质量的影响 | 第109-112页 |
5.3.2 氧等离子体处理参数对PMMA和PET杨氏模量的影响 | 第112-114页 |
5.3.3 优化键合参数下PMMA-PET二维纳米通道变形情况 | 第114-116页 |
5.3.4 优化键合参数下PMMA-PET微米通道变形情况 | 第116-118页 |
5.4 热键合PET-PET二维纳米通道 | 第118-123页 |
5.4.1 热键合参数对PET-PET二维纳米通道键合质量的影响 | 第118-120页 |
5.4.2 优化键合参数下PET-PET二维纳米通道的变形情况 | 第120-122页 |
5.4.3 优化键合参数下PET-PET微米通道的变形情况 | 第122-123页 |
5.5 本章小结 | 第123-125页 |
6 结论与展望 | 第125-128页 |
6.1 结论 | 第125-126页 |
6.2 创新点 | 第126-127页 |
6.3 展望 | 第127-128页 |
参考文献 | 第128-138页 |
攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第138-140页 |
致谢 | 第140-141页 |
作者简介 | 第141页 |