ITO导电玻璃化学镀镍的前处理及镀镍工艺参数的研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第12-25页 |
1.1 透明导电薄膜 | 第12页 |
1.2 ITO透明导电氧化物薄膜 | 第12-16页 |
1.2.1 ITO结构及性能 | 第12-13页 |
1.2.2 ITO发展及应用 | 第13-14页 |
1.2.3 ITO表面金属化 | 第14-16页 |
1.3 化学镀 | 第16-20页 |
1.3.1 化学镀概念 | 第16页 |
1.3.2 化学镀镍原理 | 第16-18页 |
1.3.3 化学镀镍工艺特点 | 第18-20页 |
1.4 化学镀镍与电镀镍比较 | 第20页 |
1.5 化学镀镍应用领域 | 第20-22页 |
1.6 不同基体化学镀镍研究状况 | 第22-24页 |
1.6.1 微米粉体化学镀 | 第22-24页 |
1.6.2 纳米材料化学镀 | 第24页 |
1.7 课题研究的目的和内容 | 第24-25页 |
第二章 实验内容与方法 | 第25-33页 |
2.1 实验材料与试剂 | 第25-26页 |
2.1.1 实验材料 | 第25页 |
2.1.2 实验试剂 | 第25-26页 |
2.2 实验装置及仪器设备 | 第26-27页 |
2.2.1 实验装置 | 第26页 |
2.2.2 仪器设备 | 第26-27页 |
2.3 实验工艺流程 | 第27页 |
2.4 镀液选择和配制 | 第27-28页 |
2.4.1 镀液选择 | 第27-28页 |
2.4.2 镀液配制 | 第28页 |
2.5 镀层制备 | 第28页 |
2.6 测试与表征 | 第28-33页 |
2.6.1 镀液含量检测 | 第28-30页 |
2.6.2 镀层结合力检测 | 第30页 |
2.6.3 镀层外观检测 | 第30页 |
2.6.4 镀层厚度检测 | 第30页 |
2.6.5 镀层孔隙情况检测 | 第30-31页 |
2.6.6 镀层表面微观形貌检测 | 第31页 |
2.6.7 镀层表面方阻检测 | 第31页 |
2.6.8 镀层沉积速度测定 | 第31-33页 |
第三章 ITO导电玻璃化学镀镍前处理工艺 | 第33-48页 |
3.1 引言 | 第33-34页 |
3.2 超声波清洗 | 第34页 |
3.3 碱性除油工艺研究 | 第34-35页 |
3.4 电化学刻蚀工艺研究 | 第35-36页 |
3.5 化学刻蚀工艺研究 | 第36-41页 |
3.5.1 刻蚀液基础配方确定 | 第36-38页 |
3.5.2 时间对刻蚀的影响 | 第38-40页 |
3.5.3 浓度对刻蚀的影响 | 第40-41页 |
3.6 催化工艺研究 | 第41-43页 |
3.7 活化工艺研究 | 第43-45页 |
3.7.1 pH对活化的影响 | 第44页 |
3.7.2 浓度对活化的影响 | 第44页 |
3.7.3 温度对活化的影响 | 第44-45页 |
3.7.4 二次活化的影响 | 第45页 |
3.8 还原工艺研究 | 第45-46页 |
3.9 化学镀镍层微观形貌 | 第46-47页 |
3.10 本章小结 | 第47-48页 |
第四章 ITO导电玻璃化学镀镍的镀速及影响因素 | 第48-58页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 化学镀镍-磷合金反应的一般机理 | 第48-49页 |
4.3 PH对化学镀镍的影响 | 第49-51页 |
4.3.1 pH对沉积速度的影响 | 第49-50页 |
4.3.2 pH对镀层形貌的影响 | 第50-51页 |
4.4 温度对化学镀镍的影响 | 第51-54页 |
4.4.1 温度对沉积速率的影响 | 第51-52页 |
4.4.2 温度对镀层形貌的影响 | 第52-54页 |
4.5 施镀时间对化学镀镍的影响 | 第54-56页 |
4.5.1 施镀时间对沉积速率的影响 | 第54页 |
4.5.2 施镀时间对镀层形貌的影响 | 第54-55页 |
4.5.3 施镀时间对镀层厚度及方阻的影响 | 第55-56页 |
4.6 装载量对化学镀镍的影响 | 第56-57页 |
4.7 搅拌速度对化学镀镍的影响 | 第57页 |
4.8 本章小结 | 第57-58页 |
第五章 热处理对ITO导电玻璃化学镀镍层的影响 | 第58-62页 |
5.1 引言 | 第58页 |
5.2 镀后热处理 | 第58-61页 |
5.2.1 热处理实验装置 | 第58-59页 |
5.2.2 热处理实验方法 | 第59-60页 |
5.2.3 镍磷合金镀层表面形貌表征 | 第60-61页 |
5.3 本章小结 | 第61-62页 |
第六章 总结与展望 | 第62-63页 |
6.1 总结 | 第62页 |
6.2 展望 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |