| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外相关领域研究现状 | 第10-20页 |
| 1.2.1 纳米银线的制备方法 | 第10-17页 |
| 1.2.2 纳米银线的涂覆方法 | 第17-20页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验材料、设备和方法 | 第22-28页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验材料 | 第22-23页 |
| 2.2.1 实验原材料的选取原则 | 第22-23页 |
| 2.2.2 所用实验材料 | 第23页 |
| 2.3 实验设备 | 第23页 |
| 2.4 实验方法 | 第23-28页 |
| 2.4.1 纳米银线的多元醇法制备 | 第24-25页 |
| 2.4.2 纳米银线的涂覆方法 | 第25页 |
| 2.4.3 薄膜电阻的四探针测试方法 | 第25-28页 |
| 第3章 纳米银线的制备及表征 | 第28-45页 |
| 3.1 概述 | 第28页 |
| 3.2 纳米银线制备方案的选择 | 第28-31页 |
| 3.3 各实验变量对纳米银线形貌的影响 | 第31-40页 |
| 3.3.1 实验装置 | 第32页 |
| 3.3.2 PVP的分子量及PVP与硝酸银的摩尔比 | 第32-35页 |
| 3.3.3 氯化铁的浓度 | 第35-36页 |
| 3.3.4 预热温度及反应温度 | 第36-39页 |
| 3.3.5 搅拌速度 | 第39-40页 |
| 3.4 纳米银线的性能表征 | 第40-44页 |
| 3.4.1 EDS表征 | 第40-41页 |
| 3.4.2 XRD表征 | 第41-42页 |
| 3.4.3 TEM表征 | 第42页 |
| 3.4.4 Raman表征 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 纳米银线的涂覆方法研究 | 第45-51页 |
| 4.1 概述 | 第45页 |
| 4.2 纳米银线薄膜的性能 | 第45-48页 |
| 4.2.1 涂覆方法对薄膜形貌的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.2 涂覆方法对薄膜导电性与透光性的影响 | 第47-48页 |
| 4.3 薄膜透过率与其表面电阻及雾度的关系 | 第48-49页 |
| 4.4 酸处理过程对薄膜导电性的影响 | 第49-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 致谢 | 第58页 |