| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-32页 |
| 1.1 材料热导率和界面热导 | 第11-13页 |
| 1.2 材料热学性质的研究方法 | 第13-15页 |
| 1.2.1 3ω方法 | 第13-14页 |
| 1.2.2 时域热反射测量法 | 第14-15页 |
| 1.3 薄膜热导率研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 界面热导研究现状 | 第16-22页 |
| 1.5 钙钛矿氧化物薄膜及异质界面 | 第22-25页 |
| 1.5.1 钙钛矿氧化物简介 | 第22-23页 |
| 1.5.2 钙钛矿氧化物异质界面 | 第23-25页 |
| 1.6 本文的研究目的和主要内容 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 时域热反射法和热传导理论 | 第32-48页 |
| 2.1 时域热反射测量系统和原理 | 第32-36页 |
| 2.2 热传导理论模型 | 第36-45页 |
| 2.2.1 非平衡态下的抛物两步热传导模型 | 第37-39页 |
| 2.2.2 平衡态下柱坐标傅里叶热传导模型 | 第39-43页 |
| 2.2.3 锁相放大器响应信号 | 第43-44页 |
| 2.2.4 敏感度分析方法 | 第44-45页 |
| 2.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第三章 材料的制备与表征 | 第48-61页 |
| 3.1 脉冲激光沉积技术制备ReAO薄膜材料 | 第48-50页 |
| 3.1.1 脉冲激光沉积技术原理概述 | 第48-49页 |
| 3.1.2 ReAO薄膜材料的制备 | 第49-50页 |
| 3.2 磁控溅射技术沉积铝膜 | 第50-53页 |
| 3.2.1 磁控溅射技术原理概述 | 第50-51页 |
| 3.2.2 铝膜的磁控溅射沉积 | 第51-53页 |
| 3.3 原子力显微技术 | 第53-57页 |
| 3.3.1 ReAO薄膜材料的表面形貌表征 | 第54-57页 |
| 3.4 异质界面的电学性质表征 | 第57-58页 |
| 3.4.1 ReAO/STO异质界面的性质表征 | 第57-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第四章 ReAO(Re=La,Nd,Sm,Gd)薄膜热导率及ReAO/STO界面热导的研究 | 第61-75页 |
| 4.1 各物理量的敏感度分析 | 第61-62页 |
| 4.2 利用皮秒声学对Al膜厚度的标定 | 第62-64页 |
| 4.3 时域热反射法测量数据的模拟 | 第64-67页 |
| 4.4 ReAO薄膜热导率的测量结果与分析 | 第67-70页 |
| 4.5 ReAO/STO界面热导的测量结果与分析 | 第70-73页 |
| 4.6 本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-75页 |
| 第五章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 5.1 总结 | 第75-76页 |
| 5.2 工作展望 | 第76-77页 |
| 攻读硕士期间学术成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |