| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 金刚石的结构与特性 | 第11-13页 |
| 1.1.1 金刚石的结构 | 第11页 |
| 1.1.2 金刚石的特性 | 第11-13页 |
| 1.2 金刚石膜的应用 | 第13-17页 |
| 1.2.1 高质量金刚石膜的应用 | 第13-15页 |
| 1.2.2 掺杂金刚石膜的应用 | 第15-17页 |
| 1.3 CVD制备金刚石膜的方法 | 第17-18页 |
| 1.3.1 直流等离子体喷射CVD法 | 第17页 |
| 1.3.2 热丝CVD法 | 第17-18页 |
| 1.3.3 微波等离子体CVD法 | 第18页 |
| 1.4 MPCVD制备金刚石膜的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.4.1 金刚石膜的形核过程 | 第19-20页 |
| 1.4.2 金刚石膜的生长过程 | 第20页 |
| 1.4.3 金刚石膜制备面临的挑战及发展方向 | 第20-21页 |
| 1.5 选题意义及研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验材料及表征方法 | 第23-29页 |
| 2.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.2 实验仪器 | 第23-26页 |
| 2.2.1 超声波清洗仪 | 第23-24页 |
| 2.2.2 3kW/2450MHz型微波等离子体化学气相沉积系统 | 第24-26页 |
| 2.3 金刚石膜的表征方法 | 第26-29页 |
| 第三章 金刚石膜制备关键工艺参数优化 | 第29-45页 |
| 3.1 工艺参数对金刚石膜品质的影响 | 第29-34页 |
| 3.1.1 基片温度对金刚石膜品质的影响 | 第29-31页 |
| 3.1.2 反应腔体压强对金刚石膜品质的影响 | 第31-33页 |
| 3.1.3 甲烷浓度对金刚石膜品质的影响 | 第33-34页 |
| 3.2 金刚石膜沉积过程工艺参数优化 | 第34-43页 |
| 3.2.1 中心组合实验设计 | 第35-36页 |
| 3.2.2 模型拟合及验证 | 第36-39页 |
| 3.2.3 响应曲面分析 | 第39-41页 |
| 3.2.4 模型可靠性验证 | 第41-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 辅助气体调控金刚石膜生长的工艺研究 | 第45-57页 |
| 4.1 氧气-氩气体协同金刚石膜生长规律 | 第45-51页 |
| 4.1.1 金刚石膜协调生长实验设计 | 第46页 |
| 4.1.2 氧-氩混合气体对金刚石膜形貌及晶体结构的影响 | 第46-48页 |
| 4.1.3 氧-氩混合气体对金刚石膜质量的影响 | 第48-50页 |
| 4.1.4 纯氧及氧氩混合对金刚石膜的刻蚀作用 | 第50-51页 |
| 4.2 氧气流量对超纳米金刚石膜的影响 | 第51-55页 |
| 4.2.1 制备UNCD实验设计 | 第51-52页 |
| 4.2.2 氧气流量对UNCD的形貌及生长率的影响 | 第52页 |
| 4.2.3 氧气流量对UNCD物相结构的影响 | 第52-53页 |
| 4.2.4 氧气流量对UNCD质量的影响 | 第53-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 甲醇-氩气制备金刚石膜的工艺研究 | 第57-63页 |
| 5.1 甲醇-氩气新体系实验设计 | 第57-58页 |
| 5.2 实验结果及分析 | 第58-61页 |
| 5.2.1 金刚石膜的形貌及晶型结构 | 第58-59页 |
| 5.2.2 金刚石膜的质量评价 | 第59-60页 |
| 5.2.3 金刚石膜的生长机理 | 第60-61页 |
| 5.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 第六章 金刚石膜的掺杂工艺参数关联性研究 | 第63-69页 |
| 6.1 硼掺杂金刚石膜实验设计 | 第63-64页 |
| 6.2 实验结果与分析 | 第64-68页 |
| 6.2.1 硼掺杂金刚石膜的表面形貌 | 第64-65页 |
| 6.2.2 硼掺杂金刚石膜的晶型结构分析 | 第65页 |
| 6.2.3 硼掺杂金刚石膜的拉曼光谱分析 | 第65-66页 |
| 6.2.4 不同硼掺杂浓度金刚石膜的电学性能 | 第66-68页 |
| 6.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 第七章 结论 | 第69-71页 |
| 7.1 结论 | 第69-70页 |
| 7.2 展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-83页 |
| 附录 | 第83页 |
