| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 1 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 镁合金 | 第12页 |
| 1.2 镁合金腐蚀与防护 | 第12-18页 |
| 1.2.1 镁合金腐蚀的基本现象 | 第12-13页 |
| 1.2.2 镁的腐蚀机理 | 第13-16页 |
| 1.2.3 镁合金的腐蚀行为 | 第16-18页 |
| 1.2.4 镁合金的防护 | 第18页 |
| 1.3 缓蚀剂的发展 | 第18-20页 |
| 1.3.1 缓蚀剂的分类 | 第18-19页 |
| 1.3.2 氨基酸类缓蚀剂的研究进展 | 第19页 |
| 1.3.3 Schiff碱类缓蚀剂的研究进展 | 第19-20页 |
| 1.4 聚毗咯 | 第20-22页 |
| 1.4.1 聚吡咯简介 | 第20页 |
| 1.4.2 聚吡咯的聚合机理 | 第20-21页 |
| 1.4.3 聚吡咯的掺杂 | 第21页 |
| 1.4.4 聚吡咯防腐的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.5 本课题的研究思路及内容 | 第22-24页 |
| 2 水杨醛缩氨基酸Schiff碱类缓蚀剂的合成及表征 | 第24-30页 |
| 2.1 药品与仪器 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第24页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.2 水杨醛缩氨基酸Schiff碱类缓蚀剂的合成 | 第25-29页 |
| 2.2.1 水杨醛缩甘氨酸Schiff碱(SB1)的合成 | 第25-26页 |
| 2.2.2 水杨醛缩β-丙氨酸Schiff碱(SB2)的合成及表征 | 第26-27页 |
| 2.2.3 水杨醛缩DL-天冬氨酸Schiff碱(SB3)的合成及表征 | 第27页 |
| 2.2.4 水杨醛缩L-谷氨酸Schiff碱(SB4)的合成及表征 | 第27-28页 |
| 2.2.5 水杨醛缩DL-半胱氨酸Schiff碱(SB5)的合成及表征 | 第28-29页 |
| 2.3 小结 | 第29-30页 |
| 3 水杨醛缩氨基酸Schiff碱类缓蚀剂缓蚀性能研究 | 第30-62页 |
| 3.1 药品与仪器 | 第30-31页 |
| 3.1.1 实验药品 | 第30页 |
| 3.1.2 实验仪器 | 第30-31页 |
| 3.2 测试材料与测试方法 | 第31-32页 |
| 3.2.1 测试材料 | 第31页 |
| 3.2.2 测试方法 | 第31-32页 |
| 3.3 水杨醛缩氨基酸Schiff碱类缓蚀剂的缓蚀性能测试 | 第32-34页 |
| 3.4 SB1的缓蚀性能测试 | 第34-40页 |
| 3.4.1 缓蚀率与缓蚀剂浓度的关系 | 第34-37页 |
| 3.4.2 缓蚀率与温度的关系 | 第37-40页 |
| 3.5 SB2的缓蚀性能测试 | 第40-45页 |
| 3.5.1 缓蚀率与缓蚀剂浓度的关系 | 第40-42页 |
| 3.5.2 缓蚀率与温度的关系 | 第42-45页 |
| 3.6 SB3的缓蚀性能测试 | 第45-49页 |
| 3.6.1 缓蚀率与缓蚀剂浓度的关系 | 第45-47页 |
| 3.6.2 缓蚀率与温度的关系 | 第47-49页 |
| 3.7 SB4的缓蚀性能测试 | 第49-54页 |
| 3.7.1 缓蚀率与缓蚀剂浓度的关系 | 第49-52页 |
| 3.7.2 缓蚀率与温度的关系 | 第52-54页 |
| 3.8 SB5的缓蚀性能测试 | 第54-59页 |
| 3.8.1 缓蚀率与缓蚀剂浓度的关系 | 第54-57页 |
| 3.8.2 缓蚀率与温度的关系 | 第57-59页 |
| 3.9 腐蚀形貌分析 | 第59-61页 |
| 3.9.1 拉曼光谱分析 | 第59-60页 |
| 3.9.2 SEM形貌测试 | 第60-61页 |
| 3.10 小结 | 第61-62页 |
| 4 缓蚀剂的缓蚀机理分析 | 第62-67页 |
| 4.1 吸附等温模型 | 第62-64页 |
| 4.2 腐蚀动力学研究 | 第64-65页 |
| 4.3 小结 | 第65-67页 |
| 5 IP_6-Ppy/SiO_2涂层的制备与应用 | 第67-73页 |
| 5.1 仪器与试剂 | 第67页 |
| 5.2 实验步骤 | 第67-68页 |
| 5.2.1 IP_6-Ppy/SiO_2的制备 | 第67页 |
| 5.2.2 IP_6-Ppy/SiO_2/环氧树脂涂层的制备 | 第67页 |
| 5.2.3 结构表征及耐蚀性能测试 | 第67-68页 |
| 5.3 IP_6-Ppy/SiO_2掺杂率影响因素的研究 | 第68-70页 |
| 5.3.1 氧化剂用量对IP_6-Ppy/SiO_2掺杂率的影响 | 第68页 |
| 5.3.2 分散剂用量对IP_6-Ppy/SiO_2掺杂率的影响 | 第68-69页 |
| 5.3.3 聚合温度对IP_6-Ppy/SiO_2掺杂率的影响 | 第69-70页 |
| 5.4 IP_6-Ppy/SiO_2复合材料的表征及应用 | 第70-72页 |
| 5.4.1 IP_6-Ppy/SiO_2复合材料XRD图谱 | 第70页 |
| 5.4.2 IP_6-Ppy/SiO_2复合材料TEM图谱 | 第70-71页 |
| 5.4.3 IP_6-Ppy/SiO_2复合材料TEM图谱 | 第71-72页 |
| 5.4.4 IP_6-Ppy/SiO_2复合涂层的电化学性能 | 第72页 |
| 5.5 小结 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 附录 | 第79-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
