| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8页 |
| 1.2 紫外光学薄膜材料及制备技术 | 第8-13页 |
| 1.2.1 紫外光学薄膜材料 | 第9-12页 |
| 1.2.2 紫外光学薄膜制备技术 | 第12-13页 |
| 1.3 薄膜的光学常数 | 第13-16页 |
| 1.3.1 光学常数及其确定的重要性 | 第13-14页 |
| 1.3.2 光学常数的相互关系 | 第14页 |
| 1.3.3 光学常数的确定方法 | 第14-16页 |
| 1.4 光学薄膜的辐照效应及损伤机理 | 第16-21页 |
| 1.4.1 光学薄膜的带电粒子辐照效应 | 第16-18页 |
| 1.4.2 辐照色心机制 | 第18-21页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 光学薄膜的制备、表征及辐照方法 | 第22-30页 |
| 2.1 物理气相沉积薄膜的制备方法 | 第22-24页 |
| 2.1.1 薄膜样品的制备过程 | 第22-23页 |
| 2.1.2 薄膜制备工艺参数 | 第23页 |
| 2.1.3 ORTUS-700真空电子束镀膜设备 | 第23-24页 |
| 2.2 光学薄膜的表征方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1 薄膜光学性能表征 | 第24页 |
| 2.2.2 薄膜结构表征 | 第24-25页 |
| 2.3 光学薄膜的带电粒子辐照方法 | 第25-30页 |
| 2.3.1 HfO_2薄膜 | 第25-27页 |
| 2.3.2 MgF_2薄膜 | 第27-29页 |
| 2.3.3 空间综合辐照模拟设备 | 第29-30页 |
| 第3章 PVD工艺过程的膜厚误差及修正 | 第30-46页 |
| 3.1 镀膜精度对光学元件的影响 | 第30-31页 |
| 3.2 膜厚控制方法及误差 | 第31-32页 |
| 3.2.1 光控误差 | 第31页 |
| 3.2.2 晶控误差 | 第31-32页 |
| 3.3 沉积温度对膜厚误差的影响及修正 | 第32-39页 |
| 3.3.1 HfO_2薄膜的晶控误差修正 | 第32-37页 |
| 3.3.2 MgF_2薄膜的晶控误差修正 | 第37-39页 |
| 3.4 大气环境对薄膜光学厚度的影响 | 第39-45页 |
| 3.4.1 HfO_2薄膜 | 第39-42页 |
| 3.4.2 MgF_2薄膜 | 第42-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 沉积温度对HfO_2和MgF_2膜结构及缺陷的影响 | 第46-59页 |
| 4.1 HfO_2薄膜的结构与缺陷 | 第46-53页 |
| 4.1.1 HfO_2薄膜的结构 | 第46-50页 |
| 4.1.2 HfO_2薄膜的形貌 | 第50-52页 |
| 4.1.3 HfO_2薄膜的缺陷 | 第52-53页 |
| 4.2 MgF_2薄膜的结构与缺陷 | 第53-58页 |
| 4.2.1 MgF_2薄膜的结构 | 第53-56页 |
| 4.2.2 MgF_2薄膜的形貌 | 第56-58页 |
| 4.2.3 MgF_2薄膜的缺陷 | 第58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 HfO_2和MgF_2薄膜的辐照效应 | 第59-69页 |
| 5.1 HfO_2薄膜的辐照效应及损伤机理 | 第59-63页 |
| 5.1.1 HfO_2薄膜的质子辐照效应 | 第59-60页 |
| 5.1.2 HfO_2薄膜的电子辐照效应 | 第60-61页 |
| 5.1.3 HfO_2薄膜辐照色心演化规律 | 第61-63页 |
| 5.2 MgF_2薄膜的辐照效应及损伤机理 | 第63-68页 |
| 5.2.1 MgF_2薄膜的质子辐照效应 | 第63-64页 |
| 5.2.2 MgF_2薄膜的电子辐照效应 | 第64-66页 |
| 5.2.3 MgF_2薄膜辐照色心演化规律 | 第66-68页 |
| 5.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75页 |