| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 金刚石的性质及应用 | 第13-17页 |
| 1.1.1 金刚石的晶体结构 | 第13-14页 |
| 1.1.2 力学性能及应用 | 第14-15页 |
| 1.1.3 电学性能及应用 | 第15页 |
| 1.1.4 光学性能及应用 | 第15-16页 |
| 1.1.5 热学性能及应用 | 第16-17页 |
| 1.2 光学级金刚石的性能及其应用 | 第17-18页 |
| 1.3 沉积金刚石的方法 | 第18-22页 |
| 1.3.1 热丝化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| 1.3.2 直流等离子体喷射化学气相沉积法 | 第20页 |
| 1.3.3 微波等离子体化学气相沉积法 | 第20-22页 |
| 1.4 CVD沉积光学级金刚石中的等离子体诊断分析 | 第22-25页 |
| 1.5 中高沉积气压下CVD沉积光学级金刚石的现状 | 第25-27页 |
| 1.6 本研究论文工作的意义及其主要内容 | 第27-29页 |
| 第2章 实验装置及表征 | 第29-35页 |
| 2.1 实验装置 | 第29-32页 |
| 2.1.1 金刚石沉积装置 | 第29-30页 |
| 2.1.2 等离子体发射光谱诊断装置 | 第30-31页 |
| 2.1.3 金刚石抛光装置 | 第31-32页 |
| 2.2 表征方法 | 第32-35页 |
| 2.2.1 拉曼光谱(Raman) | 第33页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| 2.2.3 X射线衍射(XRD) | 第34页 |
| 2.2.4 傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR) | 第34-35页 |
| 第3章 等离子体发射光谱分析 | 第35-57页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 CH_4/H_2等离子体发射光谱 | 第35-37页 |
| 3.3 CH_4/H_2/O_2等离子体发射光谱 | 第37-38页 |
| 3.4 沉积气压对等离子体发射光谱的影响 | 第38-45页 |
| 3.4.1 沉积气压对基团谱线强度的影响 | 第38-40页 |
| 3.4.2 沉积气压对基团空间分布的影响 | 第40-45页 |
| 3.5 CH_4浓度对等离子体发射光谱的影响 | 第45-48页 |
| 3.5.1 CH_4浓度对等离子体基团谱线强度的影响 | 第45-47页 |
| 3.5.2 CH_4浓度对等离子体基团空间分布的影响 | 第47-48页 |
| 3.6 掺O_2对等离子体发射光谱的影响 | 第48-51页 |
| 3.6.1 掺O_2对等离子体基团谱线强度的影响 | 第48-49页 |
| 3.6.2 掺O_2对等离子体基团空间分布的影响 | 第49-51页 |
| 3.7 光强比值法计算电子温度 | 第51-54页 |
| 3.8 本章小结 | 第54-57页 |
| 第4章 中高沉积气压下金刚石的沉积及其工艺研究 | 第57-67页 |
| 4.1 沉积气压对沉积金刚石的影响 | 第57-60页 |
| 4.2 CH_4浓度对沉积金刚石的影响 | 第60-62页 |
| 4.3 掺入O_2对沉积金刚石的影响 | 第62-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 中高沉积气压下光学级金刚石的制备 | 第67-77页 |
| 5.1 光学级金刚石的制备及抛光 | 第67页 |
| 5.2 光学级金刚石的表征 | 第67-73页 |
| 5.3 单晶金刚石的制备 | 第73-75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-77页 |
| 第6章 论文总结与展望 | 第77-81页 |
| 6.1 论文总结 | 第77-80页 |
| 6.2 论文展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
