摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 引言 | 第12-26页 |
1.1 前言 | 第12-13页 |
1.2 铜氧化合物高温超导体 | 第13-24页 |
1.2.1 铜氧化合物高温超导体的结构 | 第13-16页 |
1.2.2 铜氧化合物高温超导体的相图 | 第16-22页 |
1.2.3 铜氧化合物高温超导体的理论模型 | 第22-24页 |
1.3 论文结构安排 | 第24-26页 |
第二章 Mott绝缘体简介 | 第26-56页 |
2.1 费米液体理论 | 第26-32页 |
2.2 半满的Mott绝缘体 | 第32-47页 |
2.2.1 Hubbard模型 | 第32-35页 |
2.2.2 费米面嵌套 | 第35-36页 |
2.2.3 Hubbard运动方程近似 | 第36-39页 |
2.2.4 Brinkman-Rice金属-绝缘体相变 | 第39-44页 |
2.2.5 动力学平均场理论框架下的Mott金属-绝缘体相变 | 第44-47页 |
2.3 掺杂的Mott绝缘体 | 第47-54页 |
2.3.1 单空穴掺杂 | 第48-52页 |
2.3.2 谱权重转移 | 第52-54页 |
2.4 本章小结 | 第54-56页 |
第三章 反铁磁有序的Mott绝缘体 | 第56-84页 |
3.1 电荷涨落和holon-doublon束缚态 | 第57-58页 |
3.2 模型和方法 | 第58-65页 |
3.3 结果与讨论 | 第65-81页 |
3.3.1 平均双占据 | 第65-66页 |
3.3.2 谱函数和态密度 | 第66-74页 |
3.3.3 Luttinger面 | 第74-78页 |
3.3.4 光电导 | 第78-81页 |
3.4 本章小结 | 第81-84页 |
第四章 有限温Mott绝缘体 | 第84-96页 |
4.1 模型和方法 | 第84-88页 |
4.2 结果与讨论 | 第88-94页 |
4.2.1 平均双占据 | 第88-89页 |
4.2.2 谱函数和态密度 | 第89-91页 |
4.2.3 Holon-doublon束缚能 | 第91-92页 |
4.2.4 有限温相图 | 第92-94页 |
4.3 本章小结 | 第94-96页 |
第五章 总结与展望 | 第96-100页 |
参考文献 | 第100-122页 |
个人简历 | 第122-123页 |
发表文章目录 | 第123-124页 |
致谢 | 第124-126页 |