| 中文摘要 | 第10-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 引言 | 第13-21页 |
| 1.1 光学微操控的发展史 | 第13-14页 |
| 1.2 光力分离基本理论 | 第14-20页 |
| 1.2.1 光镊 | 第14-15页 |
| 1.2.2 光力分离基本理论 | 第15-20页 |
| 1.3 本文的主要内容 | 第20-21页 |
| 第二章 小粒子的z方向保守力与非保守力随介电常数虚部变化规律 | 第21-37页 |
| 2.1 计算时所选用的各种参数 | 第21-22页 |
| 2.2 数值程序正确性的判断 | 第22-27页 |
| 2.2.1 对ε_i=0的小粒子所受F_g的分析 | 第22-27页 |
| 2.2.2 粒子在z=0，x-y面上所受F_(gx)与F_(gy)的比对 | 第27页 |
| 2.3 数值程序准确性的判断 | 第27-30页 |
| 2.3.1 轴线上力的收敛性 | 第28-29页 |
| 2.3.2 计算步数 | 第29-30页 |
| 2.4 不同ε_i对应的小粒子所受F_(gz)与F_(kz)在z轴上的分布情况 | 第30-36页 |
| 2.5 本章的总结 | 第36-37页 |
| 第三章 Mie粒子所受保守力随介电常数虚部变化规律 | 第37-59页 |
| 3.1 LCP与RCP高斯光束照射下的粒子受力情况的比较 | 第37-40页 |
| 3.2 Mie粒子所受F_g随ε_i变化情况 | 第40-57页 |
| 3.2.1 数值模拟与解析计算的比对结果 | 第41-43页 |
| 3.2.2 LP高斯光束照射下介质Mie粒子所受F_g随ε_i的变化情况 | 第43-49页 |
| 3.2.3 LP高斯光束照射下金属Mie粒子所受F_g随ε_i的变化情况 | 第49-55页 |
| 3.2.4 LCP高斯光束照射下Mie粒子所受F_g随ε_i的变化情况 | 第55-57页 |
| 3.3 本章的总结 | 第57-59页 |
| 第四章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 个人简况与联系方式 | 第71-72页 |
