| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 铁电材料概述 | 第11-13页 |
| 1.2 铁电薄膜材料 | 第13页 |
| 1.3 铁电材料的非线性特征 | 第13-16页 |
| 1.3.1 电介质极化机制 | 第14-15页 |
| 1.3.2 非线性相关参数 | 第15-16页 |
| 1.4 Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3概述 | 第16-20页 |
| 1.4.1 Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3结构 | 第16-17页 |
| 1.4.2 Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜研究现状 | 第17-20页 |
| 1.5 本论文研究目的及主要内容 | 第20-23页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第23-35页 |
| 2.1 实验原料及仪器设备 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第24-27页 |
| 2.2.1 薄膜制备技术 | 第24-25页 |
| 2.2.2 Na_(0.5)Bi_(0.5)(Ti,Zn)O_3薄膜前驱体溶液的配制 | 第25-26页 |
| 2.2.3 Na_(0.5)Bi_(0.5)(Ti,Zn)O_3薄膜的制备工艺流程 | 第26页 |
| 2.2.4 电容器结构的制备 | 第26-27页 |
| 2.3 薄膜结构及性能表征手段 | 第27-29页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪 | 第27-28页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第28页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第28页 |
| 2.3.4 铁电测试仪 | 第28-29页 |
| 2.3.5 阻抗分析仪 | 第29页 |
| 2.4 前驱体溶液的配制和放置时间的研究 | 第29-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 Zn~(2+)掺量对Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜结构和性能的影响 | 第35-43页 |
| 3.1 Zn~(2+)掺量对Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜结晶性的影响 | 第35-36页 |
| 3.2 Zn~(2+)掺量对Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜绝缘性和铁电性的影响 | 第36-39页 |
| 3.3 Zn~(2+)掺量对Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3薄膜介电调谐性的影响 | 第39-41页 |
| 3.4 小结 | 第41-43页 |
| 第四章 退火温度对Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜结构和性能的影响 | 第43-53页 |
| 4.1 不同退火温度下Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的结晶性 | 第43-46页 |
| 4.2 不同退火温度下Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的绝缘性和铁电性 | 第46-48页 |
| 4.3 不同退火温度下Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的介电调谐性 | 第48-50页 |
| 4.4 小结 | 第50-53页 |
| 第五章 单层膜厚对Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜结构和性能的影响 | 第53-61页 |
| 5.1 不同单层膜厚Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的结晶性 | 第53-55页 |
| 5.2 不同单层膜厚Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的绝缘性 | 第55-56页 |
| 5.3 不同单层膜厚Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的介电调谐性 | 第56-60页 |
| 5.4 小结 | 第60-61页 |
| 第六章 退火气氛对Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜结构和性能的影响 | 第61-69页 |
| 6.1 不同退火气氛Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的结晶性 | 第61-63页 |
| 6.2 不同退火气氛Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的绝缘性 | 第63-64页 |
| 6.3 不同退火气氛Na_(0.5)Bi_(0.5)Ti_(0.99)Zn_(0.01)O_3薄膜的介电调谐性 | 第64-66页 |
| 6.4 小结 | 第66-69页 |
| 第七章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 7.1 主要研究结论 | 第69-70页 |
| 7.2 创新点 | 第70页 |
| 7.3 工作展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 附录 | 第81-82页 |
