外延生长铁单晶薄膜的高频磁性
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·磁性元件的发展现状 | 第7-8页 |
| ·磁性薄膜在磁性元件中的应用 | 第8-9页 |
| ·薄膜系统中高频磁性理论的发展现状 | 第9-12页 |
| ·本文关注的科学问题 | 第12-13页 |
| ·本章小结 | 第13页 |
| 参考文献 | 第13-16页 |
| 第二章 外延单晶薄膜的制备 | 第16-26页 |
| ·分子束外延薄膜生长系统介绍 | 第16-18页 |
| ·样品的制备与表征 | 第18-23页 |
| ·样品的生长过程与表征 | 第19-21页 |
| ·样品晶体取向的调控 | 第21-22页 |
| ·样品厚度的调控 | 第22-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-26页 |
| 第三章 外延单晶薄膜的静态磁性 | 第26-40页 |
| ·外延单晶薄膜的静态磁性介绍 | 第26-28页 |
| ·单晶Fe薄膜的磁各向异性 | 第26-28页 |
| ·单晶Fe薄膜的反磁化机制 | 第28页 |
| ·不同晶体取向样品的静态磁性 | 第28-35页 |
| ·不同晶体取向样品的磁各向异性 | 第28-31页 |
| ·不同晶体取向样品的技术磁化过程 | 第31-35页 |
| ·不同厚度样品的静态磁性 | 第35-38页 |
| ·不同厚度样品的剩磁状态 | 第35-36页 |
| ·界面诱发的磁各向异性 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第四章 外延单晶薄膜的高频磁性 | 第40-54页 |
| ·磁性薄膜在高频下的磁化动力学过程 | 第40-44页 |
| ·磁化强度的等效场形式 | 第40-41页 |
| ·磁化强度动力学过程的模拟 | 第41-44页 |
| ·薄膜参数对高频磁性的影响 | 第44-46页 |
| ·不同晶体取向对高频磁性的影响 | 第44-45页 |
| ·不同薄膜厚度对高频磁性的影响 | 第45-46页 |
| ·外延单晶薄膜中多向可用的高频特性 | 第46-49页 |
| ·样品对不同方向微波磁场的高频响应 | 第46-47页 |
| ·样品剩磁状态下的磁矩排列 | 第47-49页 |
| ·外延单晶薄膜在外场下的高频磁性 | 第49-52页 |
| ·共振频率与外加磁场大小的关系 | 第49-50页 |
| ·非饱和区共振随外磁场方向的变化 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 硕士期间研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
