| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·问题的提出及研究意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究状况 | 第10-12页 |
| ·本文研究的目的和研究内容 | 第12-14页 |
| ·本文研究的目的 | 第12-13页 |
| ·本文研究的内容 | 第13-14页 |
| 2 仪器设备 | 第14-26页 |
| ·磁控溅射设备 | 第14-16页 |
| ·高真空退火炉 | 第16页 |
| ·氧化辅助脱合金系统 | 第16-18页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第18-20页 |
| ·透射电子显微镜 | 第20-22页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第22-23页 |
| ·台阶仪 | 第23-24页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第24-26页 |
| 3 实验过程 | 第26-31页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·磁控溅射设备制备合金薄膜 | 第26-28页 |
| ·通过控制功率确定 Cu-Al 的比例 | 第26-27页 |
| ·双靶共溅射制备 Cu-Al、Fe-Al、Ni-Al 合金薄膜 | 第27-28页 |
| ·高真空退火炉对 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜进行退火处理 | 第28页 |
| ·OAD 法制备多孔纳米结构薄膜 | 第28-30页 |
| ·Cu_(70)Al_(30)合金薄膜的腐蚀处理 | 第28-29页 |
| ·OAD 法对 Cu_(54)Al_(46)、Fe-Al、Ni-Al 合金薄膜处理 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 4 实验结果与分析 | 第31-51页 |
| ·OAD 原理及 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜腐蚀现象 | 第31-38页 |
| ·Cu-Al 合金中 Cu、Al 原子个数比的确定 | 第31-33页 |
| ·CuO 纳米片结构薄膜的形成过程 | 第33-35页 |
| ·OAD 法制备金属氧化物纳米结构薄膜的原理 | 第35-36页 |
| ·NaOH 溶液浓度对 Cu_xO 纳米结构薄膜的影响 | 第36-37页 |
| ·CuO 纳米片的光学性质 | 第37-38页 |
| ·高真空退火处理 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜 | 第38-42页 |
| ·退火温度对 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜的影响 | 第38-39页 |
| ·退火温度对 Cu_xO 纳米结构薄膜的影响 | 第39-42页 |
| ·OAD 腐蚀处理 Cu54Al46、Fe-Al、Ni-Al 合金薄膜 | 第42-50页 |
| ·Cu_xO 多孔纳米结构薄膜的晶体结构和形貌 | 第42-45页 |
| ·NaOH 溶液浓度对 Cu_xO 纳米片结构薄膜的影响 | 第45-48页 |
| ·OAD 法制备 Fe_xO、Ni_xO 纳米结构薄膜 | 第48-50页 |
| ·OAD 法得到的 Fe_xO、Ni_xO 纳米结构薄膜的形貌 | 第48-49页 |
| ·Fe_xO、Ni_xO 纳米结构薄膜的光学性质 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 5 总结与展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 攻读学位期间研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
