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氧化辅助脱合金法制备Cu_xO多孔纳米结构薄膜研究

中文摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
1 绪论第9-14页
   ·问题的提出及研究意义第9-10页
   ·国内外研究状况第10-12页
   ·本文研究的目的和研究内容第12-14页
     ·本文研究的目的第12-13页
     ·本文研究的内容第13-14页
2 仪器设备第14-26页
   ·磁控溅射设备第14-16页
   ·高真空退火炉第16页
   ·氧化辅助脱合金系统第16-18页
   ·扫描电子显微镜第18-20页
   ·透射电子显微镜第20-22页
   ·X 射线衍射仪第22-23页
   ·台阶仪第23-24页
   ·紫外-可见分光光度计第24-26页
3 实验过程第26-31页
   ·引言第26页
   ·磁控溅射设备制备合金薄膜第26-28页
     ·通过控制功率确定 Cu-Al 的比例第26-27页
     ·双靶共溅射制备 Cu-Al、Fe-Al、Ni-Al 合金薄膜第27-28页
   ·高真空退火炉对 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜进行退火处理第28页
   ·OAD 法制备多孔纳米结构薄膜第28-30页
     ·Cu_(70)Al_(30)合金薄膜的腐蚀处理第28-29页
     ·OAD 法对 Cu_(54)Al_(46)、Fe-Al、Ni-Al 合金薄膜处理第29-30页
   ·本章小结第30-31页
4 实验结果与分析第31-51页
   ·OAD 原理及 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜腐蚀现象第31-38页
     ·Cu-Al 合金中 Cu、Al 原子个数比的确定第31-33页
     ·CuO 纳米片结构薄膜的形成过程第33-35页
     ·OAD 法制备金属氧化物纳米结构薄膜的原理第35-36页
     ·NaOH 溶液浓度对 Cu_xO 纳米结构薄膜的影响第36-37页
     ·CuO 纳米片的光学性质第37-38页
   ·高真空退火处理 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜第38-42页
     ·退火温度对 Cu_(70)Al_(30)合金薄膜的影响第38-39页
     ·退火温度对 Cu_xO 纳米结构薄膜的影响第39-42页
   ·OAD 腐蚀处理 Cu54Al46、Fe-Al、Ni-Al 合金薄膜第42-50页
     ·Cu_xO 多孔纳米结构薄膜的晶体结构和形貌第42-45页
     ·NaOH 溶液浓度对 Cu_xO 纳米片结构薄膜的影响第45-48页
     ·OAD 法制备 Fe_xO、Ni_xO 纳米结构薄膜第48-50页
       ·OAD 法得到的 Fe_xO、Ni_xO 纳米结构薄膜的形貌第48-49页
       ·Fe_xO、Ni_xO 纳米结构薄膜的光学性质第49-50页
   ·本章小结第50-51页
5 总结与展望第51-53页
参考文献第53-56页
攻读学位期间研究成果第56-57页
致谢第57页

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