| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·光催化技术概述 | 第8-11页 |
| ·光催化基本原理 | 第9-10页 |
| ·TiO_2光催化剂的现状与存在的问题 | 第10-11页 |
| ·新型光催化剂的研究现状 | 第11-14页 |
| ·Ag_3VO_4光催化剂的结构及其性能 | 第11页 |
| ·Ag_3VO_4的制备方法及光催化性能研究 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的结构及其性能 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的制备方法及光催化性能 | 第13-14页 |
| ·提高光催化剂催化效率的途径 | 第14-18页 |
| ·改变催化剂粒径尺寸和比表面积 | 第14页 |
| ·提高光催化剂的光响应范围 | 第14-15页 |
| ·抑制电子和空穴的复合 | 第15-18页 |
| ·石墨烯简介 | 第16-17页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第17-18页 |
| ·论文的研究目的与意义 | 第18-19页 |
| 第二章 Ag_3VO_4/GO 复合光催化剂的制备及其光催化性能 | 第19-40页 |
| ·试剂与仪器 | 第19-21页 |
| ·实验试剂 | 第19-20页 |
| ·实验仪器 | 第20页 |
| ·催化活性的评价 | 第20-21页 |
| ·模拟废水的制备 | 第20-21页 |
| ·模拟废水脱色率测定 | 第21页 |
| ·实验内容 | 第21-23页 |
| ·GO 的制备 | 第21-22页 |
| ·RGO 的制备 | 第22页 |
| ·Ag_3VO_4光催化剂的制备 | 第22页 |
| ·Ag_3VO_4/GO 复合光催化剂的制备 | 第22-23页 |
| ·样品表征 | 第23-25页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第24页 |
| ·紫外-可见吸收光谱（UV-Vis） | 第24页 |
| ·光电化学性能分析（Photocurrent） | 第24页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第24-25页 |
| ·样品光催化活性评价 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-39页 |
| ·GO 样品表征分析 | 第25-27页 |
| ·晶型分析 | 第25-26页 |
| ·形貌分析 | 第26-27页 |
| ·水热法制备 Ag_3VO_4/GO 复合光催化剂结构表征与性能分析 | 第27-29页 |
| ·晶型分析 | 第27-28页 |
| ·形貌分析 | 第28-29页 |
| ·沉淀沉积法制备 Ag_3VO_4/GO 复合光催化剂结构表征与性能分析 . | 第29-39页 |
| ·晶型分析 | 第29-30页 |
| ·形貌分析 | 第30-32页 |
| ·光吸收性能分析 | 第32页 |
| ·禁带宽度分析 | 第32-34页 |
| ·光催化性能分析 | 第34-37页 |
| ·Ag_3VO_4/GO 复合光催化剂的自由基捕获实验 | 第37-38页 |
| ·光催化机理探讨 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 ZnO/RGO 复合光催化剂的制备及其光催化性能 | 第40-52页 |
| ·试剂与仪器 | 第40-42页 |
| ·化学试剂 | 第40-41页 |
| ·实验仪器 | 第41-42页 |
| ·实验内容 | 第42-44页 |
| ·ZnO 催化剂的制备 | 第42页 |
| ·ZnO/RGO 复合催化剂的制备 | 第42页 |
| ·样品表征 | 第42-43页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第42页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第42页 |
| ·紫外-可见吸收光谱（UV-Vis） | 第42-43页 |
| ·光电化学性能分析（Photocurrent） | 第43页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第43页 |
| ·样品光催化活性评价 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-51页 |
| ·晶型分析 | 第44页 |
| ·形貌分析 | 第44-45页 |
| ·光吸收性能分析 | 第45-46页 |
| ·光电化学性能分析 | 第46-47页 |
| ·光催化性能分析 | 第47页 |
| ·禁带宽度分析 | 第47-49页 |
| ·循环重复实验 | 第49-50页 |
| ·光催化剂机理探讨 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录 | 第58页 |
