中文摘要 | 第1-8页 |
英文摘要 | 第8-9页 |
第一章 前言 | 第9-10页 |
第二章 文献综述 | 第10-26页 |
2.1 有机硅单体合成中副产物的组成 | 第10-11页 |
2.1.1 高沸物的组成 | 第10-11页 |
2.1.2 低沸物的组成 | 第11页 |
2.2 有机硅单体合成中副产物的处理和利用方法 | 第11-24页 |
2.2.1 高沸物的处理及利用 | 第11-16页 |
2.2.2 低沸物的处理及应用 | 第16-17页 |
2.2.3 甲基三氯硅烷的转化与利用 | 第17-24页 |
2.3 研究目的、意义及内容 | 第24-26页 |
第三章 实验部分 | 第26-31页 |
3.1 高沸副产物的裂解及利用 | 第26-28页 |
3.1.1 原料和试剂 | 第26页 |
3.1.2 实验设备及装置 | 第26-27页 |
3.1.3 实验步骤 | 第27页 |
3.1.4 结果表征方法 | 第27-28页 |
3.1.5 裂解产物组成分析 | 第28页 |
3.1.6 裂解产物结构分析 | 第28页 |
3.2 甲基三氯硅烷的转化和利用 | 第28-31页 |
3.2.1 原料和试剂 | 第28-29页 |
3.2.2 实验设备及装置 | 第29页 |
3.2.3 实验步骤 | 第29页 |
3.2.4 结果表征方法 | 第29-30页 |
3.2.5 歧化产物组成分析 | 第30页 |
3.2.6 低沸副产物组成分析 | 第30-31页 |
第四章 反应物及产物组成的分析 | 第31-37页 |
4.1 裂解产物的结构分析 | 第31-32页 |
4.2 裂解及歧化产物组成分析 | 第32-33页 |
4.3 低沸物的组成 | 第33-34页 |
4.4 高沸裂解残余物和低沸物氯含量的测定 | 第34-36页 |
4.4.1 高沸裂解残余物氯含量的测定结果 | 第34-35页 |
4.4.2 低沸物中氯含量的测定 | 第35-36页 |
4.5 小结 | 第36-37页 |
第五章 有机硅单体合成中高沸物的裂解和利用 | 第37-47页 |
5.1 高沸物中杂质的影响 | 第37-38页 |
5.2 反应工艺和装置的选择 | 第38-39页 |
5.3 工艺条件对高沸物裂解反应的影响 | 第39-43页 |
5.3.1 反应温度的影响 | 第39-40页 |
5.3.2 氯化氢通入流量影响 | 第40-41页 |
5.3.3 催化剂种类的影响 | 第41-42页 |
5.3.4 催化剂用量的影响 | 第42页 |
5.3.5 催化剂的重复利用 | 第42-43页 |
5.4 高沸物吸收液循环套用研究 | 第43-44页 |
5.5 高沸物裂解反应中试方案设计 | 第44-46页 |
5.5.1 高沸物裂解反应中试工艺流程 | 第44-45页 |
5.5.2 裂解反应釜的设计思想 | 第45-46页 |
5.6 小结 | 第46-47页 |
第六章 甲基三氯硅烷的歧化反应 | 第47-67页 |
6.1 工艺条件对甲基三氯硅烷歧化反应的影响 | 第47-53页 |
6.1.1 催化剂种类及加入方式的影响 | 第47-49页 |
6.1.2 催化剂用量的影响 | 第49-50页 |
6.1.3 催化剂的重复利用性能 | 第50-52页 |
6.1.4 反应时间的影响 | 第52页 |
6.1.5 反应温度的影响 | 第52-53页 |
6.2 反应物中甲基含量对甲基三氯硅烷歧化反应的影响 | 第53-63页 |
6.2.1 低沸物组成及含量的影响 | 第53-57页 |
6.2.2 高沸物的种类及含量的影响 | 第57-60页 |
6.2.3 三甲基氯硅烷的影响 | 第60-61页 |
6.2.4 六甲基二硅氧烷的影响 | 第61-63页 |
6.2.5 氯甲烷的影响 | 第63页 |
6.3 甲基三氯硅烷歧化反应中试概念化设计 | 第63-65页 |
6.3.1 反应装置材料的选择 | 第63-64页 |
6.3.2 中试工艺及流程的总体方案设计 | 第64-65页 |
6.4 小节 | 第65-67页 |
第七章 反应机理的探讨和验证 | 第67-73页 |
7.1 高沸物裂解反应机理的验证和探讨 | 第67-69页 |
7.1.1 反应过程的验证 | 第67-68页 |
7.1.2 反应机理的探讨 | 第68-69页 |
7.2 甲基三氯硅烷歧化反应过程和机理的探讨 | 第69-72页 |
7.2.1 反应过程的验证 | 第69-71页 |
7.2.2 催化机理的探讨 | 第71-72页 |
7.3 小节 | 第72-73页 |
第八章 结论及展望 | 第73-75页 |
8.1 论文总结 | 第73-74页 |
8.2 未来展望 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-77页 |
附录 | 第77-84页 |
致谢 | 第84页 |