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中子辐照6H-SiC晶体的电学性能及其退火研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-8页
第一章 绪论第8-12页
   ·引言第8-10页
   ·辐照损伤国内外研究现状第10-11页
   ·本文的主要工作第11-12页
第二章 SiC 的结构性质、缺陷及辐照损伤第12-29页
   ·SiC 的晶体结构第12-14页
   ·SiC 的电学性能第14-17页
     ·SiC 能带结构第14-15页
     ·SiC 的掺杂第15-16页
     ·SiC 载流子的迁移率第16-17页
   ·晶体缺陷第17-24页
     ·缺陷种类第18页
     ·点缺陷的产生和迁移第18-21页
     ·点缺陷的缔合与缺陷簇第21-22页
     ·点缺陷对晶体性能的影响第22-24页
   ·SiC 的辐照损伤第24-29页
     ·辐照损伤的产生第24-27页
     ·辐照缺陷的退火第27-28页
     ·载流子通过深能级的俘获和复合第28-29页
第三章 测试与表征第29-45页
   ·霍尔测试原理和方法第29-38页
     ·霍尔测试原理第29-30页
     ·欧姆接触第30-35页
       ·欧姆接触形成机理第30-34页
       ·欧姆接触评价标准第34-35页
     ·未辐照 6H-SiC 单晶的样品表征第35-38页
   ·非接触电阻率测试仪简介第38-40页
   ·XRD 测试技术简介第40-42页
   ·LCR 测试仪简介第42-45页
第四章 实验结果与讨论第45-58页
   ·实验概述第45-46页
   ·辐照效应第46-51页
     ·辐照与电阻率的变化第46-47页
     ·辐照与结构变化第47-48页
     ·辐照与介电性能及极化机制第48-51页
   ·退火效应第51-57页
     ·中子辐照 6H-SiC 的电阻率随不同退火温度的变化第51-53页
     ·中子辐照 6H-SiC 介电性能随不同退火温度的变化第53-57页
   ·元素嬗变在退火中的作用第57-58页
第五章 总结与展望第58-60页
   ·总结第58-59页
   ·展望第59-60页
参考文献第60-66页
发表论文和参加科研情况说明第66-67页
致谢第67页

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