高浓度活性染料溶液的分子动力学模拟
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·活性染料高浓染液研究现状 | 第11-12页 |
| ·计算机模拟技术及应用 | 第12-13页 |
| ·分子动力学模拟理论基础 | 第13-18页 |
| ·分子动力学基本原理 | 第13-14页 |
| ·分子力场 | 第14-15页 |
| ·周期性边界条件及起始条件 | 第15-17页 |
| ·原子体系运动方程 | 第17页 |
| ·算法 | 第17-18页 |
| ·系综 | 第18页 |
| ·本论文的研究思路 | 第18-19页 |
| 第2章 分子模拟过程 | 第19-28页 |
| ·计算平台 | 第20-21页 |
| ·硬件平台 | 第20页 |
| ·软件平台 | 第20-21页 |
| ·模拟中所使用的计算程序 | 第21-23页 |
| ·染料分子结构及模拟过程 | 第23-28页 |
| ·染料分子结构 | 第23-26页 |
| ·模拟过程 | 第26-28页 |
| 第3章 分子聚集体的表征手段探索 | 第28-39页 |
| ·模拟系统稳定性分析 | 第28-32页 |
| ·均方根偏差 | 第28-29页 |
| ·能量处理 | 第29-32页 |
| ·质量分布性质随时间的变化情况分析 | 第32-35页 |
| ·均方位移 | 第32-33页 |
| ·径向分布函数 | 第33-35页 |
| ·结构特性分析 | 第35-38页 |
| ·氢键 | 第35页 |
| ·溶剂可及表面积 | 第35-36页 |
| ·原子团簇尺寸分布 | 第36-38页 |
| ·总结 | 第38-39页 |
| 第4章 单因素条件对染料分子聚集体的影响 | 第39-72页 |
| ·染料浓度对染料分子聚集的影响 | 第39-48页 |
| ·均方根偏差 | 第40页 |
| ·均方位移 | 第40-41页 |
| ·溶剂可及表面积 | 第41-42页 |
| ·通用性标准的径向分布函数 | 第42-44页 |
| ·模拟系统平衡时染料的聚集情况 | 第44-45页 |
| ·平衡时染料的聚集形态 | 第45-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| ·溶液温度对染料分子聚集的影响 | 第48-57页 |
| ·溶剂可及表面积 | 第48-49页 |
| ·均方位移 | 第49页 |
| ·团簇尺寸分布 | 第49-52页 |
| ·氢键变化情况 | 第52-54页 |
| ·染料分子水合结构的变化 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·无机盐对染料分子聚集的影响 | 第57-65页 |
| ·均方根偏差 | 第57-58页 |
| ·均方位移 | 第58页 |
| ·溶剂可及表面积 | 第58-60页 |
| ·团簇尺寸分布 | 第60页 |
| ·氢键变化情况 | 第60-62页 |
| ·水合层变化情况 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·助剂对染料分子聚集的影响 | 第65-72页 |
| ·均方根偏差 | 第65页 |
| ·溶剂可及表面积 | 第65-66页 |
| ·均方位移 | 第66-67页 |
| ·氢键变化情况 | 第67-68页 |
| ·水合层变化情况 | 第68-70页 |
| ·结论 | 第70-72页 |
| 第5章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
