新型化学镀法制备木质电磁屏蔽材料的研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
目录 | 第9-13页 |
English Catalog | 第13-17页 |
1 绪论 | 第17-32页 |
·木质基电磁屏蔽材料 | 第17-21页 |
·木材及其特性 | 第17-18页 |
·木材—金属复合材料 | 第18-21页 |
·非金属化学镀研究 | 第21-26页 |
·化学镀反应机理 | 第21-24页 |
·非金属化学镀活化工艺 | 第24-26页 |
·木材化学镀的研究现状及存在问题 | 第26-30页 |
·木材化学镀镍研究现状 | 第27-28页 |
·木材化学镀铜研究现状 | 第28-29页 |
·木材化学镀存在的问题 | 第29-30页 |
·研究的目的意义、内容及创新点 | 第30-32页 |
·目的及意义 | 第30页 |
·主要内容 | 第30-31页 |
·主要创新点 | 第31页 |
·技术路线 | 第31-32页 |
2 实验原料、仪器和实验方法 | 第32-40页 |
·实验原料 | 第32页 |
·实验仪器 | 第32-33页 |
·化学镀单板的性能测试 | 第33-36页 |
·金属沉积率测定 | 第33页 |
·表面电阻率 | 第33-34页 |
·电磁屏蔽性能 | 第34-35页 |
·物理性能 | 第35-36页 |
·化学镀单板的表征 | 第36-40页 |
·镀层形貌 | 第36页 |
·镀层成分 | 第36页 |
·镀层组织结构 | 第36-37页 |
·化学镀单板视觉物理量 | 第37-40页 |
3 以乙醛酸为还原剂的木材化学镀铜 | 第40-73页 |
·引言 | 第40页 |
·实验方法与原理 | 第40-41页 |
·实验药品 | 第40页 |
·实验方法 | 第40-41页 |
·离子钯活化研究 | 第41-50页 |
·壳聚糖前处理原理 | 第41-43页 |
·活化条件探讨 | 第43-45页 |
·活化过程的分析与表征 | 第45-50页 |
·乙醛酸为还原剂的化学镀铜研究 | 第50-54页 |
·反应原理 | 第50页 |
·镀液成分与含量 | 第50-54页 |
·化学镀铜工艺条件 | 第54-57页 |
·镀液pH的影响 | 第54-55页 |
·镀液温度的影响 | 第55-56页 |
·施镀时间的影响 | 第56-57页 |
·化学镀铜单板表征 | 第57-63页 |
·镀层EDS和XPS分析 | 第57-60页 |
·镀层XRD分析 | 第60-61页 |
·镀层SEM分析 | 第61-63页 |
·化学镀铜单板性能 | 第63-67页 |
·电磁屏蔽性能 | 第63页 |
·镀层物理性能 | 第63-67页 |
·化学镀铜单板视觉特性 | 第67-71页 |
·镀层色度学参数的测量与分析 | 第67-69页 |
·镀层光泽度值的测量与分析 | 第69页 |
·涂饰前后视觉物理量的对比分析 | 第69-71页 |
·镀铜单板的视觉心理特性 | 第71页 |
·本章小结 | 第71-73页 |
4 非钯活化的木材化学镀铜 | 第73-100页 |
·引言 | 第73页 |
·实验方法与原理 | 第73-75页 |
·实验药品 | 第73页 |
·实验方法 | 第73-74页 |
·实验原理 | 第74-75页 |
·NaBH_4前处理条件 | 第75-78页 |
·NaBH_4处理液浓度的影响 | 第76-77页 |
·NaBH_4处理时间的影响 | 第77-78页 |
·化学镀铜溶液的成分与含量 | 第78-83页 |
·硫酸铜浓度 | 第78-79页 |
·硫酸镍浓度 | 第79页 |
·乙醛酸浓度 | 第79-80页 |
·乙二胺四乙酸二钠浓度 | 第80-81页 |
·联吡啶浓度 | 第81-82页 |
·添加剂L浓度 | 第82-83页 |
·化学镀铜工艺条件 | 第83-85页 |
·镀液pH影响 | 第83-84页 |
·镀液温度影响 | 第84-85页 |
·施镀时间影响 | 第85页 |
·化学镀铜单板镀层表征 | 第85-92页 |
·镀层EDS和XPS分析 | 第85-88页 |
·镀层XRD分析 | 第88-89页 |
·镀层SEM分析 | 第89-92页 |
·化学镀铜单板性能 | 第92-95页 |
·电磁屏蔽性能 | 第92页 |
·镀层物理性能 | 第92-95页 |
·化学镀铜单板视觉特性 | 第95-100页 |
·镀层色度学参数的测量与分析 | 第96页 |
·镀层光泽度值的测量与分析 | 第96-97页 |
·涂饰前后视觉物理量的对比分析 | 第97-98页 |
·镀铜单板的视觉心理特性 | 第98-99页 |
·本章小结 | 第99-100页 |
5 木材化学镀单板彩化研究 | 第100-127页 |
·引言 | 第100页 |
·实验过程 | 第100-102页 |
·实验药品 | 第100-101页 |
·工艺流程 | 第101页 |
·性能测定 | 第101页 |
·化学镀镍原理 | 第101-102页 |
·短流程化学镀镍 | 第102-103页 |
·NaBH_4的浓度与处理时间 | 第102页 |
·化学镀时间 | 第102-103页 |
·彩化液浓度初步确定 | 第103-104页 |
·镀层彩化处理 | 第104-109页 |
·彩化液的组成及含量 | 第104-107页 |
·彩化条件 | 第107-109页 |
·彩化前后镀层表征 | 第109-119页 |
·镀层XPS分析 | 第109-113页 |
·镀层XRD分析 | 第113-114页 |
·镀层SEM分析 | 第114-119页 |
·彩化前后单板性能研究 | 第119-121页 |
·电磁屏蔽性能 | 第119页 |
·镀层物理性能 | 第119-121页 |
·彩化前后单板视觉特性 | 第121-127页 |
·色度学参数的测量与分析 | 第121-123页 |
·光泽度值的测量与分析 | 第123页 |
·涂饰对彩化镀层的影响 | 第123-125页 |
·彩化单板的视觉心理特性 | 第125页 |
·本章小结 | 第125-127页 |
结论 | 第127-129页 |
参考文献 | 第129-137页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第137-138页 |
致谢 | 第138-139页 |