ZnO薄膜晶体管的模型与研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-16页 |
| ·ZnO 材料的基本性质及研究意义 | 第8-11页 |
| ·ZnO 晶体的结构特性 | 第8-10页 |
| ·ZnO 薄膜的基本性质 | 第10-11页 |
| ·ZnO 薄膜晶体管发展概述 | 第11-14页 |
| ·薄膜晶体管的发展 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜晶体管的优势 | 第12-14页 |
| ·ZnO TFT 发展现状及存在的问题 | 第14页 |
| ·本论文的研究内容及章节编排 | 第14-16页 |
| 第二章 TFT 结构及工作机理 | 第16-26页 |
| ·TFT 的基本结构 | 第16-18页 |
| ·TFT 的工作机理 | 第18-22页 |
| ·线性区 | 第18-19页 |
| ·饱和区 | 第19页 |
| ·关态 | 第19-20页 |
| ·TFT 特性参数 | 第20-22页 |
| ·Silvaco 仿真软件介绍 | 第22-26页 |
| 第三章 ZnO TFT 的器件模型 | 第26-40页 |
| ·ZnO 薄膜制备工艺及样品介绍 | 第26-29页 |
| ·ZnO TFT 模型建立 | 第29-34页 |
| ·基本电流方程 | 第29-30页 |
| ·TFT 器件缺陷态密度模型 | 第30页 |
| ·ZnO TFT 模型 | 第30-34页 |
| ·模型验证及分析 | 第34-38页 |
| ·模型数据拟合 | 第34-37页 |
| ·带尾态缺陷对 ZnO TFT 的影响 | 第37-38页 |
| ·深隙态缺陷对 ZnO TFT 的影响 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 三层介质 ZnO TFT | 第40-50页 |
| ·典型 ZnO TFT 仿真 | 第40-42页 |
| ·三层介质的 ZnO TFT 结构仿真 | 第42-44页 |
| ·高к介质 | 第42-43页 |
| ·三层介质 ZnO TFT 结构仿真 | 第43-44页 |
| ·三种结构特性的比较 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 ITO/ZnO 双层沟道 TFT | 第50-58页 |
| ·器件结构简介 | 第50-51页 |
| ·特性机理分析 | 第51-54页 |
| ·ITO 薄膜厚度对器件特性的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 工作与展望 | 第58-60页 |
| ·工作总结 | 第58页 |
| ·研究展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
