| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·超导材料的简介 | 第10页 |
| ·高温超导材料的发展 | 第10-13页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第13-16页 |
| ·高温超导材料在强电领域的应用 | 第14-15页 |
| ·高温超导材料在弱电领域的应用 | 第15-16页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·晶体缺陷对 YBCO 薄膜性能的影响 | 第18页 |
| ·YBCO 高温超导薄膜的研究现状 | 第18-20页 |
| ·论文选题依据与研究方案 | 第20-22页 |
| 第二章 溅射原理与薄膜表征方法 | 第22-29页 |
| ·直流溅射原理 | 第22-23页 |
| ·薄膜表征方法 | 第23-27页 |
| ·薄膜的晶体结构表征——X 射线衍射仪 | 第23-25页 |
| ·薄膜的电学性能分析——临界电流密度测试仪 | 第25-26页 |
| ·薄膜的厚度检测——触针式台阶仪 | 第26-27页 |
| ·薄膜形貌的表征——电子扫描显微镜 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 快速直流溅射镀膜设备 | 第29-36页 |
| ·快速直流溅射镀膜设备的结构与工作流程 | 第29-31页 |
| ·快速直流溅射镀膜设备的特点 | 第31-35页 |
| ·小靶基距溅射 | 第31-32页 |
| ·溅射靶——盒型平面靶对靶溅射 | 第32-33页 |
| ·夹具——多工位夹具 | 第33-34页 |
| ·基片的转动方式——公、自转相结合 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 快速直流溅射 YBCO 薄膜的均匀性研究 | 第36-51页 |
| ·盒型靶溅射镀膜的厚度分布模拟 | 第36-42页 |
| ·膜厚分布模型建立 | 第36-38页 |
| ·静止基片的膜厚分布模拟与分析 | 第38-40页 |
| ·基片旋转方式对膜厚分布的影响 | 第40-42页 |
| ·实验数据分析 | 第42-46页 |
| ·压强对膜厚分布的影响 | 第42-44页 |
| ·功率对膜厚分布的影响 | 第44-45页 |
| ·靶基距对膜厚分布影响 | 第45-46页 |
| ·YBCO 薄膜的均匀性研究 | 第46-49页 |
| ·YBCO 薄膜的膜厚均匀性 | 第46-47页 |
| ·YBCO 薄膜的结构均匀性 | 第47-49页 |
| ·YBCO 薄膜的电学性能均匀性 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 溅射法制备 YBCO 薄膜的缺陷机制研究 | 第51-66页 |
| ·YBCO 外延薄膜中位错密度的计算方法 | 第51-52页 |
| ·生长温度对 YBCO 薄膜晶体缺陷的影响 | 第52-56页 |
| ·生长温度对 YBCO 薄膜晶体结构的影响 | 第52-53页 |
| ·不同生长温度的薄膜中位错密度对临界电流密度的影响 | 第53-56页 |
| ·薄膜厚度对 YBCO 薄膜晶体缺陷的影响 | 第56-64页 |
| ·膜厚对 YBCO 薄膜的晶格结构的影响 | 第56-61页 |
| ·不同厚度的 YBCO 薄膜中的位错密度对临界电流密度的影响 | 第61-64页 |
| ·YBCO 薄膜中位错密度对其电学性能的影响 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |