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多晶硅湿法提纯与定向生长模拟研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-7页
第1章 绪论第7-21页
   ·研究背景和意义第7-8页
   ·冶金法制备太阳能级多晶硅工艺第8-11页
     ·冶金法概述第8页
     ·冶金法制备多晶硅主要工艺路线第8-11页
   ·太阳能多晶硅锭定向凝固主要技术第11-15页
     ·浇铸法第12-13页
     ·布里奇曼法第13页
     ·热交换法第13-14页
     ·电磁感应加热连续铸造法第14-15页
   ·湿法冶金第15-17页
   ·数值模拟在多晶硅晶体生长的应用第17-19页
   ·本课题研究的目的、内容和意义第19-21页
     ·研究的目的和意义第19-20页
     ·研究的主要内容第20-21页
第2章 冶金级硅湿法提纯第21-33页
   ·实验原理第21页
   ·实验目的及方案设计第21-25页
     ·实验目的第21页
     ·实验试剂第21-22页
     ·实验仪器和设备第22页
     ·实验流程第22-25页
   ·探索试验结果与讨论第25-32页
 本章小结第32-33页
第3章 多晶硅晶体生长的多物理场系统描述第33-42页
   ·定向凝固炉内热量的传递第33-34页
   ·影响晶体生长的热场和流场的因素第34-35页
   ·多物理场系统描述第35-39页
     ·热场第35-37页
     ·流场第37页
     ·电磁场第37-39页
   ·边界条件第39页
   ·晶体固化理论第39-40页
   ·流场型态的判断第40-41页
 本章小结第41-42页
第4章 多晶硅晶体生长的数值模拟研究第42-56页
   ·有限元法与软件第42-43页
   ·形状函数第43页
   ·收敛条件第43-44页
   ·分析流程第44-49页
     ·建立模型和绘制几何图形第45-46页
     ·元素型式、物理模块的选择及材料设定第46-47页
     ·边界条件设定第47页
     ·网格划分第47-48页
     ·分析第48-49页
   ·模拟结果与分析第49-55页
     ·多晶硅晶体生长每个阶段的坩埚内温度场分布第50-52页
     ·未长晶阶段多晶硅熔体中心轴处温度场分布情况第52-53页
     ·未长晶阶段多晶硅熔体表面处温度场分布情况第53-54页
     ·外加稳恒磁场下多晶硅结晶阶段的固液界面情况第54-55页
 本章小结第55-56页
第5章 结论与展望第56-58页
   ·结论第56-57页
   ·展望第57-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-62页
攻读学位期间的研究成果第62页

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