| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| 第二章 薄膜应力和光学常数的基本理论 | 第13-26页 |
| §2.1 薄膜应力的分类与成因 | 第13-16页 |
| ·薄膜应力的定义与分类 | 第13-14页 |
| ·薄膜应力的产生机理 | 第14-16页 |
| §2.2 薄膜应力公式的推导 | 第16-23页 |
| ·薄膜内应力的计算公式 | 第16-19页 |
| ·薄膜热应力公式的推导 | 第19-21页 |
| ·薄膜残余应力的主要测试方法 | 第21-23页 |
| §2.3 薄膜光学常数的相关理论 | 第23-26页 |
| ·包络线极值法简介 | 第23-25页 |
| ·常用的折射率色散模型 | 第25-26页 |
| 第三章 各种条件下二氧化铪薄膜样品的制备 | 第26-32页 |
| §3.1 真空镀膜设备简介和薄膜材料 | 第26-29页 |
| ·真空镀膜机介绍 | 第26-28页 |
| ·HfO_2薄膜材料简介 | 第28-29页 |
| §3.2 基板的清洗和镀膜机清理 | 第29-30页 |
| ·基板的清洗方法 | 第29页 |
| ·镀膜机蒸镀室的清理 | 第29-30页 |
| §3.3 各种条件下HfO_2薄膜样品的制备 | 第30-32页 |
| ·不同沉积温度下HfO_2薄膜样品的制备 | 第30页 |
| ·不同氧分压环境中HfO_2薄膜样品的制备 | 第30页 |
| ·不同沉积速率下HfO_2薄膜样品的制备 | 第30-31页 |
| ·不同退火温度处理的HfO_2薄膜样品 | 第31-32页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第32-53页 |
| §4.1 测试仪器简介 | 第32-33页 |
| ·ZYGO干涉仪介绍 | 第32页 |
| ·岛津UV3101-PC分光光度计介绍 | 第32-33页 |
| ·冷场发射扫描电子显微镜介绍 | 第33页 |
| ·X射线衍射仪介绍 | 第33页 |
| §4.2 沉积温度对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响 | 第33-39页 |
| ·沉积温度对HfO_2薄膜应力的影响 | 第33-35页 |
| ·不同温度下制备的HfO_2薄膜光学常数的测量和分析 | 第35-37页 |
| ·沉积温度对HfO_2薄膜微结构和表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| §4.3 氧分压对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响 | 第39-44页 |
| ·氧分压对HfO_2薄膜应力的影响 | 第39-40页 |
| ·不同氧分压下制备的HfO_2薄膜光学常数的测量和分析 | 第40-42页 |
| ·氧分压对HfO_2薄膜微结构和表面形貌的影响 | 第42-44页 |
| §4.4 沉积速率对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响 | 第44-48页 |
| ·沉积速率对HfO_2薄膜应力的影响 | 第44-45页 |
| ·不同沉积速率制备的HfO_2薄膜光学常数的测量和分析 | 第45-46页 |
| ·沉积速率对HfO_2薄膜微结构和表面形貌的影响 | 第46-48页 |
| §4.5 退火温度对HfO_2薄膜应力及光学特性的影响 | 第48-53页 |
| ·退火温度对HfO_2薄膜应力的影响 | 第48-49页 |
| ·不同退火温度处理的HfO_2薄膜光学常数的测量和分析 | 第49-51页 |
| ·退火温度对HfO_2薄膜微结构和表面形貌的影响 | 第51-53页 |
| 全文总结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 在校期间发表的学术论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
