摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
目录 | 第10-13页 |
插图索引 | 第13-17页 |
附表索引 | 第17-18页 |
第1章 绪论 | 第18-40页 |
·引言 | 第18-21页 |
·水热法简介 | 第21-23页 |
·水热法溶液酸碱度对材料结构影响的研究现状 | 第23-24页 |
·硅纳米管构型研究现状 | 第24-25页 |
·硅纳米线的研究现状 | 第25-30页 |
·硅纳米线的制备 | 第26-28页 |
·硅纳米线生长机理 | 第28-29页 |
·硅纳米线表面的Si-H键的研究 | 第29-30页 |
·氧化硅纳米颗粒与纳米线的研究现状 | 第30-34页 |
·氧化硅纳米颗粒的研究现状 | 第31-32页 |
·氧化硅纳米线的研究现状 | 第32-33页 |
·氧化硅纳米材料表面Si-OH键的研究 | 第33-34页 |
·其他相关纳米材料研究现状 | 第34-37页 |
·选题的目的、意义及内容 | 第37-40页 |
·选题的目的及意义 | 第37-38页 |
·主要研究内容 | 第38-40页 |
第2章 水热法溶液酸碱度对硅纳米材料形成影响的实验基础 | 第40-52页 |
·水热技术 | 第40-41页 |
·水热法制备流程及实验参数的确定 | 第41-47页 |
·实验工艺流程 | 第41页 |
·实验原料及设备 | 第41-45页 |
·原料比率的确定 | 第45-46页 |
·中性环境制备硅纳米管 | 第46-47页 |
·pH值对前驱物分散度的影响 | 第47-51页 |
·pH值对前驱物溶液粘度的影响 | 第48页 |
·pH值对前驱物粒度的影响 | 第48-49页 |
·pH值对前驱物溶液ζ电位的影响 | 第49-50页 |
·前驱物分散机理分析 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第3章 酸性水热条件下制备硅纳米线及其形成机理研究 | 第52-81页 |
·引言 | 第52-53页 |
·实验过程 | 第53-55页 |
·晶体硅纳米线的表征分析 | 第55-58页 |
·硅纳米线的结构及成分分析 | 第55-57页 |
·硅纳米线的透射电镜及SAED衍射分析 | 第57-58页 |
·酸性条件下,温度、压力对硅纳米线形貌的影响 | 第58-66页 |
·pH值对硅纳米线的影响 | 第58-60页 |
·温度对纳米线形貌的影响 | 第60-65页 |
·保温保压时间对硅纳米线形貌的影响 | 第65-66页 |
·硅纳米线PL光谱分析 | 第66-67页 |
·硅纳米线Raman光谱分析 | 第67-69页 |
·硅纳米线溶解-结晶及氧化物辅助生长机理 | 第69-79页 |
·水热溶液的物理热力学讨论 | 第69-71页 |
·硅纳米结构稳定性计算 | 第71-76页 |
·硅纳米线晶核形成机制 | 第76-78页 |
·硅纳米线氧化物辅助生长机制 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-81页 |
第4章 碱性环境下制备氧化硅纳米球及氧化硅纳米线及其形成机理研究 | 第81-102页 |
·引言 | 第81-82页 |
·实验过程 | 第82页 |
·氧化硅纳米球的表征及形成机理分析 | 第82-92页 |
·氧化硅纳米球的结构及成分分析 | 第82-85页 |
·实验条件对反应产物粒径的影响 | 第85-89页 |
·氧化硅纳米球PL光谱分析 | 第89-90页 |
·氧化硅纳米球的IR光谱分析 | 第90-91页 |
·碱性环境下氧化硅纳米球的形成机理 | 第91-92页 |
·无定形氧化硅纳米线的表征及形成机理分析 | 第92-101页 |
·无定形氧化硅纳米线的表征分析 | 第92-94页 |
·实验条件对硅纳米线的影响 | 第94-101页 |
·本章小结 | 第101-102页 |
第5章 不同酸碱度条件下制备氢氧化镍纳米片及其形成机理的研究 | 第102-113页 |
·引言 | 第102-103页 |
·实验过程 | 第103-104页 |
·中性条件下氢氧化镍纳米片的表征分析 | 第104-105页 |
·温度、保温时间以及pH值对氢氧化镍纳米片的影响 | 第105-109页 |
·温度对氢氧化镍纳米片形貌的影响 | 第105-106页 |
·保温保压时间对氢氧化镍纳米片形貌的影响 | 第106-107页 |
·酸碱度对氢氧化镍纳米片形貌的影响 | 第107-109页 |
·氢氧化镍纳米片形成的机理 | 第109-111页 |
·本章小结 | 第111-113页 |
结论 | 第113-116页 |
参考文献 | 第116-128页 |
附录A | 第128-129页 |
致谢 | 第129页 |