电阻阵列红外景物产生器微桥结构的材料及制作研究
| 作者简介 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·研究背景和意义 | 第12页 |
| ·动态红外景物模拟系统简介 | 第12-14页 |
| ·红外景物产生器技术 | 第14-17页 |
| ·不同类型的红外景物产生器 | 第14-16页 |
| ·各种技术的优缺点 | 第16-17页 |
| ·红外景物模拟系统的研究现状 | 第17-18页 |
| ·电阻阵列红外景物产生器的研究 | 第18-24页 |
| ·相关理论基础 | 第18-20页 |
| ·产生器的三种具体结构形式 | 第20-21页 |
| ·微桥结构中的材料及要求 | 第21-22页 |
| ·微桥结构研究的现状及发展重点 | 第22-24页 |
| ·本文主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 低应力氢化非晶硅薄膜的研究 | 第26-46页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·薄膜应力概述 | 第27-32页 |
| ·产生的机理 | 第27-28页 |
| ·薄膜应力特性 | 第28页 |
| ·应力测量方法 | 第28-31页 |
| ·薄膜应力控制技术 | 第31-32页 |
| ·实验方法 | 第32-35页 |
| ·薄膜沉积速率及折射率的研究 | 第35-40页 |
| ·正交实验设计 | 第35-36页 |
| ·正交实验结果与分析 | 第36页 |
| ·气体流量对沉积速率和折射率的影响 | 第36-39页 |
| ·射频功率对沉积速率和折射率的影响 | 第39-40页 |
| ·薄膜应力研究 | 第40-44页 |
| ·射频功率对应力影响 | 第40-41页 |
| ·沉积温度对应力影响 | 第41-42页 |
| ·压强对应力影响 | 第42页 |
| ·薄膜红外光谱分析 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第三章 低应力氧化硅、氮化硅薄膜的研究与特性对比 | 第46-66页 |
| ·低应力薄膜的沉积技术 | 第46页 |
| ·氮化硅薄膜的应力研究 | 第46-54页 |
| ·实验方法 | 第46-47页 |
| ·采用氨气反应的薄膜应力 | 第47-51页 |
| ·采用氮气反应的薄膜应力 | 第51-54页 |
| ·两种方式沉积薄膜的特性对比 | 第54页 |
| ·氧化硅薄膜的应力研究 | 第54-58页 |
| ·实验方法 | 第54页 |
| ·薄膜应力与工艺参数关系 | 第54-57页 |
| ·典型样品的 XPS 分析 | 第57-58页 |
| ·两种薄膜特性对比 | 第58-61页 |
| ·力学特性 | 第58-59页 |
| ·热稳定性 | 第59页 |
| ·红外吸收特性 | 第59-61页 |
| ·薄膜光谱辐射特性测试初探 | 第61-63页 |
| ·薄膜刻蚀 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第四章 氮氧化硅薄膜的研究 | 第66-78页 |
| ·引言 | 第66-67页 |
| ·实验方法 | 第67-68页 |
| ·结果及讨论 | 第68-77页 |
| ·薄膜 XPS 分析 | 第68-71页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第71-75页 |
| ·折射率分析 | 第75页 |
| ·力学特性 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 TiWN 薄膜的沉积及特性研究 | 第78-88页 |
| ·器件对电阻材料的要求及现状 | 第78页 |
| ·器件对电阻材料的要求 | 第78页 |
| ·电阻材料的研究现状 | 第78页 |
| ·TiWN 薄膜的沉积 | 第78-80页 |
| ·TiWN 薄膜电学性能测试及表征 | 第80-87页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第80页 |
| ·薄膜电阻率与电阻温度系数测试方法 | 第80-81页 |
| ·不同氮气分压比下的电阻率 | 第81-82页 |
| ·典型薄膜的电阻温度系数 | 第82-83页 |
| ·XPS 测试 | 第83-85页 |
| ·XRD 测试 | 第85-87页 |
| ·AFM 测试 | 第87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 第六章 红外景物产生器微桥结构的设计、制作及仿真 | 第88-104页 |
| ·微桥结构的设计 | 第88-91页 |
| ·微桥结构设计考虑 | 第88-89页 |
| ·微桥结构制作过程中的材料选择 | 第89页 |
| ·微桥结构版图设计 | 第89-91页 |
| ·微桥结构的制作 | 第91-98页 |
| ·自支撑悬空结构的制作 | 第91-92页 |
| ·电阻 TiWN 薄膜图形化的研究 | 第92-93页 |
| ·160 元线阵结构研制 | 第93-94页 |
| ·160×120 阵列微桥结构制作过程 | 第94-97页 |
| ·芯片上微桥结构阵列器件的制作 | 第97-98页 |
| ·微桥结构的有限元分析 | 第98-101页 |
| ·本章小结 | 第101-104页 |
| 第七章 结束语 | 第104-108页 |
| 致谢 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-116页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第116-118页 |
